[發明專利]表面清潔設備的自清潔方法及濕式表面清潔系統

在審

• 申請號: 201911187572.4
• 申請日: 2019-11-28
• 公開（公告）號: CN112656320A
• 公開（公告）日: 2021-04-16
• 發明（設計）人: 卞莊
• 申請（專利權）人: 蘇州誠河清潔設備有限公司
• 主分類號: A47L11/30
• 分類號: A47L11/30;A47L11/40
• 代理公司: 蘇州謹和知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 32295
• 代理人: 靳靜

1.一種表面清潔設備的自清潔方法，其特征在于，包括：

使表面清潔設備的滾刷在盛放有清潔液體的護理座內空轉，以完成將滾刷上黏附的污物轉移到液體中的漂洗程序；

再開啟真空電機，將護理座內的漂洗液體抽到污液箱的排水程序。

2.根據權利要求1所述的自清潔方法，其特征在于：所述的滾刷通過滾刷電機驅動而轉動。

3.根據權利要求2所述的自清潔方法，其特征在于：在開啟所述的滾刷電機之前，首先檢測所述的表面清潔設備是否位于所述的護理座內。

4.根據權利要求3所述的自清潔方法，其特征在于：在所述的表面清潔設備放置在所述的護理座內后，發出提醒用戶向護理座內倒入清潔液體的提示。

5.根據權利要求2所述的自清潔方法，其特征在于：所述的滾刷電機啟動設定時間后再延遲啟動所述的真空電機。

6.根據權利要求2所述的自清潔方法，其特征在于：在漂洗程序中，所述的滾刷以一個大于清掃狀態下的轉速轉動。

7.根據權利要求1所述的自清潔方法，其特征在于：所述的將護理座內的漂洗液體抽到污液箱內是借助所述的滾刷轉動完成的。

8.根據權利要求1所述的自清潔方法，其特征在于：在護理座內的液體抽畢后發出提醒傾倒污液箱的提示。

9.根據權利要求1所述的自清潔方法，其特征在于：所述的表面清潔設備帶有用于盛放清潔液體的清水箱，所述的護理座內的清潔液體來自于所述的清水箱。

10.根據權利要求1所述的自清潔方法，其特征在于：所述的護理座內的清潔液體來自于外部添加。

11.一種濕式表面清潔系統，包括：

表面清潔設備，具有真空電機、清潔頭、通過一抽吸通道與所述的清潔頭流體連通的污水箱以及控制裝置，所述的清潔頭上具有滾刷；

護理座，被配置成能夠盛放清潔液體；

其特征在于：所述的濕式表面清潔系統被配置成具有清掃模式和自清潔模式，在所述的自清潔模式下，所述的滾刷被配置成能夠在盛放有清潔液體的護理座內空轉，以完成將滾刷上黏附的污物轉移到液體的漂洗程序，所述的真空電機被配置成在所述的滾刷漂洗設定時間后延遲啟動，以完成將所述的護理座內的漂洗液體抽到污液箱內的排水程序。

12.根據權利要求11所述的濕式表面清潔系統，其特征在于：所述的清潔頭上設置有驅動所述的滾刷轉動的滾刷電機，所述的滾刷電機和真空電機分別與所述的控制裝置電連接。

13.根據權利要求11所述的濕式表面清潔系統，其特征在于：所述的表面清潔設備還具有啟動所述的自清潔模式的自清潔開關。

14.根據權利要求11所述的濕式表面清潔系統，其特征在于：所述的滾刷被配置成在清掃模式和自清潔模式下具有不同的轉速。

15.根據權利要求11所述的濕式表面清潔系統，其特征在于：所述的護理座上具有充電端子。

16.根據權利要求11所述的濕式表面清潔系統，其特征在于：所述的護理座上具有用于檢測所述的表面清潔設備是否正確安放在所述的護理座上的傳感器。

17.根據權利要求11所述的濕式表面清潔系統，其特征在于：所述的護理座上具有部分表面向下凹陷形成以供液體存放的凹槽。

18.根據權利要求11所述的濕式表面清潔系統，其特征在于：還包括與所述的控制裝置信號連接的報警模塊。