[發(fā)明專利]用于監(jiān)控生產(chǎn)過程的方法和裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911180119.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-11-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110703721B | 公開(公告)日: | 2021-10-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周燕;王璽 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 英特爾產(chǎn)品(成都)有限公司;英特爾公司 |
| 主分類號(hào): | G05B19/418 | 分類號(hào): | G05B19/418 |
| 代理公司: | 北京永新同創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11376 | 代理人: | 于景輝;李文彪 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 監(jiān)控 生產(chǎn)過程 方法 裝置 | ||
本文公開了用于監(jiān)控生產(chǎn)過程的方法和裝置。根據(jù)本公開的一個(gè)方面,一種用于監(jiān)控生產(chǎn)過程的方法包括:使用針對(duì)指示生產(chǎn)過程的狀態(tài)的參數(shù)的第一控制界限來監(jiān)控所述生產(chǎn)過程;針對(duì)所述生產(chǎn)過程的即將發(fā)生的改變,獲取針對(duì)所述參數(shù)的第二控制界限,其中,所述第二控制界限是基于對(duì)改變后的生產(chǎn)過程進(jìn)行仿真而得到的仿真生產(chǎn)數(shù)據(jù)來確定的;以及響應(yīng)于所述生產(chǎn)過程發(fā)生改變,使用所述第二控制界限來監(jiān)控改變后的生產(chǎn)過程。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開總體上涉及信息處理,更具體地,涉及用于監(jiān)控生產(chǎn)過程的方法和裝置。
背景技術(shù)
過程控制是生產(chǎn)自動(dòng)化的重要組成部分,其已經(jīng)被廣泛地應(yīng)用于各種生產(chǎn)環(huán)境中,例如產(chǎn)品制造、產(chǎn)品測(cè)試,等等。通過對(duì)與生產(chǎn)過程相關(guān)的被控參數(shù)進(jìn)行監(jiān)控并據(jù)此進(jìn)行相應(yīng)的處理,可以保證生產(chǎn)過程的穩(wěn)定性和安全性,降低成本、增加產(chǎn)量并提高產(chǎn)品質(zhì)量。
盡管相關(guān)理論和技術(shù)已得到較為成熟的發(fā)展,但面對(duì)日益復(fù)雜的生產(chǎn)環(huán)境和更高程度的控制需求,過程控制系統(tǒng)在具體實(shí)施時(shí)仍有諸多問題需要解決。
發(fā)明內(nèi)容
在發(fā)明內(nèi)容部分中,以簡(jiǎn)化的形式介紹一些選出的概念,其將在下面的具體實(shí)施方式部分中被進(jìn)一步描述。該發(fā)明內(nèi)容部分并非是要標(biāo)識(shí)出所要求保護(hù)的主題的任何關(guān)鍵特征或必要特征,也不是要被用于幫助確定所要求保護(hù)的主題的范圍。
根據(jù)本公開的一個(gè)方面,提供了一種用于監(jiān)控生產(chǎn)過程的方法,所述方法包括:使用針對(duì)指示生產(chǎn)過程的狀態(tài)的參數(shù)的第一控制界限來監(jiān)控所述生產(chǎn)過程;針對(duì)所述生產(chǎn)過程的即將發(fā)生的改變,獲取針對(duì)所述參數(shù)的第二控制界限,其中,所述第二控制界限是基于對(duì)改變后的生產(chǎn)過程進(jìn)行仿真而得到的仿真生產(chǎn)數(shù)據(jù)來確定的;以及響應(yīng)于所述生產(chǎn)過程發(fā)生改變,使用所述第二控制界限來監(jiān)控改變后的生產(chǎn)過程。
根據(jù)本公開的另一個(gè)方面,提供了一種用于監(jiān)控生產(chǎn)過程的裝置,所述裝置包括:用于使用針對(duì)指示生產(chǎn)過程的狀態(tài)的參數(shù)的第一控制界限來監(jiān)控所述生產(chǎn)過程的模塊;用于針對(duì)所述生產(chǎn)過程的即將發(fā)生的改變,獲取針對(duì)所述參數(shù)的第二控制界限的模塊,其中,所述第二控制界限是基于對(duì)改變后的生產(chǎn)過程進(jìn)行仿真而得到的仿真生產(chǎn)數(shù)據(jù)來確定的;以及用于響應(yīng)于所述生產(chǎn)過程發(fā)生改變,使用所述第二控制界限來監(jiān)控改變后的生產(chǎn)過程的模塊。
根據(jù)本公開的再一個(gè)方面,提供了一種用于監(jiān)控生產(chǎn)過程的設(shè)備,所述設(shè)備包括:存儲(chǔ)器,其用于存儲(chǔ)指令;以及至少一個(gè)處理器,其耦合到所述存儲(chǔ)器,其中,所述指令在由所述至少一個(gè)處理器執(zhí)行時(shí),使得所述至少一個(gè)處理器:使用針對(duì)指示生產(chǎn)過程的狀態(tài)的參數(shù)的第一控制界限來監(jiān)控所述生產(chǎn)過程;針對(duì)所述生產(chǎn)過程的即將發(fā)生的改變,獲取針對(duì)所述參數(shù)的第二控制界限,其中,所述第二控制界限是基于對(duì)改變后的生產(chǎn)過程進(jìn)行仿真而得到的仿真生產(chǎn)數(shù)據(jù)來確定的;以及響應(yīng)于所述生產(chǎn)過程發(fā)生改變,使用所述第二控制界限來監(jiān)控改變后的生產(chǎn)過程。
根據(jù)本公開的又一個(gè)方面,提供了一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),其上存儲(chǔ)有指令,所述指令在由至少一個(gè)處理器執(zhí)行時(shí),使得所述至少一個(gè)處理器執(zhí)行本公開中描述的方法。
附圖說明
在附圖中對(duì)本公開的實(shí)現(xiàn)以示例的形式而非限制的形式進(jìn)行了說明,附圖中相似的附圖標(biāo)記表示相同或類似的部件,其中:
圖1示出了可以在其中實(shí)施本公開的一些實(shí)現(xiàn)的示例性環(huán)境;
圖2示出了根據(jù)本公開的一些實(shí)現(xiàn)的示例性方法的流程圖;
圖3示出了根據(jù)本公開的一些實(shí)現(xiàn)的示例性數(shù)據(jù)流圖;
圖4示出了根據(jù)本公開的一些實(shí)現(xiàn)的示例性裝置的框圖;以及
圖5示出了根據(jù)本公開的一些實(shí)現(xiàn)的示例性設(shè)備的框圖。
具體實(shí)施方式
在以下的說明書中,出于解釋的目的,闡述了大量具體細(xì)節(jié)。然而,應(yīng)當(dāng)理解的是,本公開的實(shí)現(xiàn)無需這些具體細(xì)節(jié)就可以實(shí)施。在其它實(shí)例中,并未詳細(xì)示出公知的電路、結(jié)構(gòu)和技術(shù),以免影響對(duì)說明書的理解。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于英特爾產(chǎn)品(成都)有限公司;英特爾公司,未經(jīng)英特爾產(chǎn)品(成都)有限公司;英特爾公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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