[發明專利]氣體噴淋裝置以及化學氣相沉積方法有效
| 申請號: | 201911175200.X | 申請日: | 2019-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN110923669B | 公開(公告)日: | 2022-04-26 |
| 發明(設計)人: | 王質武 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人: | 唐秀萍 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氣體 噴淋 裝置 以及 化學 沉積 方法 | ||
1.一種氣體噴淋裝置,其特征在于,包括上下對應設置的通風系統和噴淋系統,所述噴淋系統和所述通風系統通過所述氣體噴淋裝置的缸體相連接;
其中,所述通風系統包括:側通風通道、旋轉機構以及氣體擋風板,所述旋轉機構與所述氣體擋風板以及所述氣體噴淋裝置的缸體均不接觸,所述氣體擋風板通過螺絲固定在所述氣體噴淋裝置缸體上,且所述氣體擋風板與所述氣體噴淋裝置缸體之間存在一定的間隔,所述旋轉機構設置在所述氣體擋風板的上方,所述旋轉機構遠離所述氣體擋風板;
所述側通風通道設置于所述氣體噴淋裝置缸體上端的側方;
所述噴淋系統包括:噴淋頭。
2.根據權利要求1所述的氣體噴淋裝置,其特征在于,所述噴淋頭包括進氣管以及設置于所述進氣管下方的噴淋面板。
3.根據權利要求2所述的氣體噴淋裝置,其特征在于,所述旋轉機構包括電機,所述電機設置在所述氣體噴淋裝置缸體的頂端,所述電機驅動所述旋轉機構。
4.根據權利要求3所述的氣體噴淋裝置,其特征在于,所述旋轉機構還包括旋轉軸和扇葉。
5.根據權利要求4所述的氣體噴淋裝置,其特征在于,所述扇葉的數量為2片或3片或6片,所述扇葉的形狀為長條形或鐮刀型。
6.根據權利要求3所述的氣體噴淋裝置,其特征在于,所述氣體噴淋裝置還包括密封裝置,所述密封裝置的材料為磁流體或圓型密封圈。
7.一種化學氣相沉積方法,其特征在于,包括以下方法:
將氣體通過側通風通道通入到氣體噴淋裝置的缸體內;所述氣體噴淋裝置包括上下對應設置的通風系統和噴淋系統,所述噴淋系統和所述通風系統通過所述氣體噴淋裝置的缸體相連接;
其中,所述通風系統包括:側通風通道、旋轉機構以及氣體擋風板,所述旋轉機構與所述氣體擋風板以及所述氣體噴淋裝置缸體均不接觸,所述氣體擋風板通過螺絲固定在所述氣體噴淋裝置缸體上,且所述氣體擋風板與所述氣體噴淋裝置缸體之間存在一定的間隔,所述旋轉機構設置在所述氣體擋風板的上方,所述旋轉機構遠離所述氣體擋風板;
所述噴淋系統包括:噴淋頭;
所述氣體由所述氣體噴淋裝置內的旋轉機構加速氣體流動,將所述氣體混合均勻;
所述氣體經過所述旋轉機構加速流動后,由噴淋系統將所述氣體噴淋到基板上。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





