[發明專利]化學機械研磨過程中穩定銅研磨速率的方法在審
| 申請號： | 201911173870.8 | 申請日： | 2019-11-26 |
| 公開（公告）號： | CN110815047A | 公開（公告）日： | 2020-02-21 |
| 發明（設計）人： | 王凱;孫延松;嚴鈞華;王春偉 | 申請（專利權）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | B24B53/017 | 分類號： | B24B53/017;B24B37/04;B24B37/005 |
| 代理公司： | 上海浦一知識產權代理有限公司 31211 | 代理人： | 欒美潔 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 化學 機械 研磨 過程 穩定 速率 方法 | ||
1.一種化學機械研磨過程中穩定銅研磨速率的方法，其特征在于，包括如下步驟：
步驟1，利用電化學鍍銅清洗液對研磨墊進行沖洗；
步驟2，對晶圓進行銅研磨；
步驟3，晶圓研磨結束后，利用電化學鍍銅清洗液對研磨墊進行沖洗。
2.根據權利要求1所述的化學機械研磨過程中穩定銅研磨速率的方法，其特征在于，在步驟1和步驟2之間，對研磨墊進行整理和超純水沖洗。
3.根據權利要求1所述的化學機械研磨過程中穩定銅研磨速率的方法，其特征在于，在步驟3后，對研磨墊進行整理和超純水沖洗。
4.根據權利要求1所述的化學機械研磨過程中穩定銅研磨速率的方法，其特征在于，在步驟1中，利用流量為80mL/min～100mL/min的電化學鍍銅清洗液進行沖洗。
5.根據權利要求4所述的化學機械研磨過程中穩定銅研磨速率的方法，其特征在于，利用流量為90mL/min的電化學鍍銅清洗液進行沖洗。
6.根據權利要求4所述的化學機械研磨過程中穩定銅研磨速率的方法，其特征在于，沖洗時間為5s～25s。
7.根據權利要求6所述的化學機械研磨過程中穩定銅研磨速率的方法，其特征在于，沖洗時間為8s。
8.根據權利要求1所述的化學機械研磨過程中穩定銅研磨速率的方法，其特征在于，在步驟3中，利用流量為200mL/min的電化學鍍銅清洗液進行沖洗。
9.根據權利要求8所述的化學機械研磨過程中穩定銅研磨速率的方法，其特征在于，在步驟3中，沖洗時間為5s～25s。
10.根據權利要求9所述的化學機械研磨過程中穩定銅研磨速率的方法，其特征在于，沖洗時間為16s。
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