[發(fā)明專利]光學式感測裝置的制造方法和光學式感測裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911159132.8 | 申請日: | 2019-11-22 |
| 公開(公告)號: | CN111104863A | 公開(公告)日: | 2020-05-05 |
| 發(fā)明(設計)人: | 董佳群;林峰 | 申請(專利權)人: | 深圳阜時科技有限公司 |
| 主分類號: | G06K9/00 | 分類號: | G06K9/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518055 廣東省深圳市南山*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 式感測 裝置 制造 方法 | ||
1.一種光學式感測裝置的制造方法,其特征在于,包括:
提供一晶圓,所述晶圓包括多個第一圖像傳感裸片,每一第一圖像傳感裸片包括多個像素單元,所述像素單元用于接收光束,并轉(zhuǎn)換接收到的光束為相應的電信號;
在所述晶圓上形成多個鏡頭模塊,所述鏡頭模塊包括:
多個小透鏡,設置在所述第一圖像傳感裸片上,所述多個小透鏡彼此間隔設置,每個所述小透鏡正對多個所述像素單元,所述小透鏡用于會聚光束至所述像素單元;和
遮光部,設置在所述第一圖像傳感裸片上,所述遮光部位于所述多個小透鏡之間的間隔區(qū)域,所述遮光部用于遮擋光束;和
對所述晶圓和所述鏡頭模塊進行切割,形成多個第二圖像傳感裸片,其中,每一第二圖像傳感裸片包括一所述第一圖像傳感裸片以及位于所述第一圖像傳感裸片上方的鏡頭模塊。
2.如權利要求1所述的光學式感測裝置的制造方法,其特征在于,進一步包括:
形成過濾層在所述晶圓上,所述過濾層用于透過目標波段的光束給所述多個第一圖像傳感裸片,以及過濾掉第二預設波段的光束,其中,所述第二預設波段與所述目標波段不同。
3.如權利要求2所述的光學式感測裝置的制造方法,其特征在于,所述過濾層形成在所述晶圓與所述鏡頭模塊之間,或者,所述過濾層形成在所述鏡頭模塊背對所述晶圓的一側(cè)。
4.如權利要求2所述的光學式感測裝置的制造方法,其特征在于,所述第二預設波段為所述目標波段以外的波段。
5.如權利要求4所述的光學式感測裝置的制造方法,其特征在于,所述預設波段為可見光,所述第二預設波段包括近紅外光。
6.如權利要求2所述的光學式感測裝置的制造方法,其特征在于,所述過濾層通過蒸鍍工藝形成在所述晶圓上。
7.如權利要求1或6所述的光學式感測裝置的制造方法,其特征在于,所述鏡頭模塊中的多個小透鏡通過壓印工藝形成在所述晶圓上。
8.如權利要求7所述的光學式感測裝置的制造方法,其特征在于,所述遮光層包括擋墻與遮光層,所述擋墻位于所述晶圓與所述遮光層之間,所述遮光層用于遮擋光束,其中,所述擋墻與所述多個小透鏡為通過壓印工藝一次成型。
9.如權利要求1所述的光學式感測裝置的制造方法,其特征在于,定義所述第一圖像傳感裸片用于感測光束的一面為感光面,所述遮光部至所述感光面的最高高度不低于所述小透鏡至所述感光面的最高高度;或者,所述遮光部至所述感光面的最高高度低于所述小透鏡至所述感光面的最高高度,且所述小透鏡至所述感光面的最高高度與所述遮光部至所述感光面的最高高度的高度差不大于10微米。
10.如權利要求1所述的光學式感測裝置的制造方法,其特征在于,所述遮光部在高度上不矮于所述小透鏡,或者矮于所述小透鏡但不矮于10微米以上。
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