[發明專利]一種無熱處理的磁控濺射制備鈣鈦礦鐵電薄膜的方法有效
| 申請號： | 201911158839.7 | 申請日： | 2019-11-22 |
| 公開（公告）號： | CN110670041B | 公開（公告）日： | 2021-08-17 |
| 發明（設計）人： | 薛德勝;楊洋 | 申請（專利權）人： | 蘭州大學 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/08 |
| 代理公司： | 甘肅省知識產權事務中心代理有限公司 62100 | 代理人： | 孫惠娜 |
| 地址： | 730000 甘肅*** | 國省代碼： | 甘肅;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 熱處理 磁控濺射 制備 鈣鈦礦鐵電 薄膜 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種無熱處理的磁控濺射制備鈣鈦礦鐵電薄膜的方法，其特征在于工藝為：用溶膠凝膠法配置BZT-BCT靶材的前驅物粉體，使前驅物粉體與聚乙烯醇混合后壓靶燒結得到BZT-BCT靶材，使用BZT-BCT靶材通過單靶射頻磁控濺射的方式在不加熱的Si基片上生長復合鈣鈦礦鐵電多晶薄膜，具體步驟如下：
(1) 將原料Ba(NO3)2、Zr(NO3)4·5H2O、Ti(OC4H9)4、Ca(NO3)2·4H2O和檸檬酸用溶膠凝膠法配制BZT-BCT的凝膠，放入烘箱60-120℃條件下，蒸干溶劑形成干凝膠，在箱式爐中600-800℃煅燒3-5小時得到靶材的前驅物粉體；
(2) 將步驟(1)中靶材的前驅物粉體與質量比為1%-3%的聚乙烯醇溶液混合造粒、壓靶、排膠、燒結得到BZT-BCT靶材，燒結溫度為800-1000 ℃；
(3) 將步驟(2)中的BZT-BCT靶材置入濺射室，抽真空，抽真空至10-4-10-5 Pa；
(4) 然后將氬氣與氧氣按比例通入到濺射室中，調節濺射氣壓，通入氬氣與氧氣體積比為1:3-3:1，濺射氣壓為2-3 Pa；
(5) 調節射頻功率起輝光，預濺射，濺射功率為200-300 W ；
(6) 在不加熱的Si基片上濺射形成鈣鈦礦鐵電薄膜。
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