[發明專利]一種高通量表征成分梯度薄膜抗輻照性能的方法在審
| 申請號： | 201911148698.0 | 申請日： | 2019-11-21 |
| 公開（公告）號： | CN110849937A | 公開（公告）日： | 2020-02-28 |
| 發明（設計）人： | 張勇;周士朝 | 申請（專利權）人： | 北京科技大學 |
| 主分類號： | G01N27/04 | 分類號： | G01N27/04;G01B7/06;G01N1/44 |
| 代理公司： | 北京方圓嘉禾知識產權代理有限公司 11385 | 代理人： | 韓晶 |
| 地址： | 100083*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 通量 表征 成分 梯度 薄膜 輻照 性能 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種高通量表征成分梯度薄膜抗輻照性能的方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟1、將制備好的成分梯度薄膜放置于原子力顯微鏡中進行厚度的表征或者放置于薄膜電阻面掃設備中進行電阻值的測量；
步驟2、將經一定輻照劑量曝光后的成分梯度薄膜放置于原子力顯微鏡中進行厚度的表征或者放置于薄膜電阻面掃設備中進行電阻值的測量；
步驟3、將步驟2測量的厚度值減去步驟1測量的厚度值，得出厚度的變化即輻照腫脹程度，或者將步驟2測量的電阻值減去步驟1測量的電阻值，得出電阻值的變化即輻照腫脹程度；
步驟4、厚度變化越大或者電阻值變化越大即輻照腫脹程度越嚴重，該成分抗輻照性能越差。
2.根據權利要求1所述的高通量表征成分梯度薄膜抗輻照性能的方法，其特征在于，步驟1中成分梯度薄膜的制備采用噴涂法、激光熔覆法、溶膠-凝膠法或者磁控濺射法。
3.根據權利要求1所述的高通量表征成分梯度薄膜抗輻照性能的方法，其特征在于，步驟1和步驟2中的原子力顯微鏡包括激光器、微懸臂、壓電掃描器、光電檢測器管。
4.根據權利要求1所述的高通量表征成分梯度薄膜抗輻照性能的方法，其特征在于，步驟1和步驟2中的薄膜電阻面掃設備包括電阻取樣裝置、A/D轉換裝置、計算機濾波處理裝置。
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