[發明專利]陣列基板及其制作方法、顯示裝置有效
| 申請號: | 201911148540.3 | 申請日: | 2019-11-21 |
| 公開(公告)號: | CN110890050B | 公開(公告)日: | 2022-07-12 |
| 發明(設計)人: | 饒娉 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | G09G3/20 | 分類號: | G09G3/20;G09F9/00 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人: | 徐世俊 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 及其 制作方法 顯示裝置 | ||
1.一種陣列基板的制作方法,其特征在于,所述方法包括如下步驟:
S10、提供基底,并在所述基底的一側制備像素電路層;
所述步驟S10包括:
S101、提供所述基底,且所述基底的一側貼附設置有第一基板,以及所述基底包括聚酰亞胺層;以及
S102、在所述基底背向所述第一基板的一側制備所述像素電路層;以及
S20、在所述基底背向所述像素電路層的一側制備功能電路層,并形成孔結構于所述基底中,使所述功能電路層中的功能電路與所述像素電路層中的像素電路通過所述孔結構相連接;
所述步驟S20包括:
S201、在所述基底制備有所述像素電路層的一側設置一保護結構;
S202、去除所述第一基板,并制備所述功能電路層于所述基底背向所述像素電路層的一側,以及在所述基底中制備所述孔結構;以及
S203、去除所述保護結構,以形成所述陣列基板。
2.根據權利要求1所述的陣列基板的制作方法,其特征在于,所述保護結構包括:
第二基板,設置于所述像素電路層上;以及
有機膜,設置于所述第二基板上并位于所述第二基板與所述像素電路層之間。
3.一種陣列基板,其特征在于,由權利要求1-2任一項所述的陣列基板的制作方法制得,包括:
基底;
像素電路層,設置于所述基底的一側;以及
功能電路層,設置于所述基底背向所述像素電路層的一側,其中,所述基底具有孔結構,且所述功能電路層中的功能電路通過所述孔結構與所述像素電路層中的像素電路電連接。
4.根據權利要求3所述的陣列基板,其特征在于,所述功能電路包括下列至少一者:GOA電路、防靜電電路以及測試電路。
5.根據權利要求4所述的陣列基板,其特征在于,所述GOA電路通過所述孔結構與所述像素電路中對應的柵極相連接,所述防靜電電路通過所述孔結構與所述像素電路中的對應電路點相連接,以及所述測試電路通過所述孔結構與所述像素電路中的對應測試點相連接。
6.根據權利要求3所述的陣列基板,其特征在于,所述基底包括顯示區以及圍繞所述顯示區的非顯示區,且所述孔結構設置于所述非顯示區內,以及所述基底包括聚酰亞胺層。
7.根據權利要求3所述的陣列基板,其特征在于,所述孔結構包括下列至少一者:通孔、盲孔以及埋孔。
8.一種顯示裝置,其特征在于,所述顯示裝置包括如權利要求3至7任一項所述的陣列基板,以及與所述陣列基板相對設置的彩膜基板。
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