[發明專利]掩模對準標記組合、掩模對準系統及對準方法、光刻裝置

有效

• 申請號: 201911144194.1
• 申請日: 2019-11-20
• 公開（公告）號: CN111624861B
• 公開（公告）日: 2021-08-27
• 發明（設計）人: 李道萍;孫建超
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 上海思捷知識產權代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

1.一種掩模對準系統，用于實現掩模板及工件臺的對準，其特征在于，包括：

照明組件，提供對準光束照射至所述掩模板上，所述掩模板上設置掩模對準標記組合，所述掩模對準標記組合在X方向和Y方向均包括兩組對準標記，其中，X方向上的兩組對準標記關于所述掩模板的中心對稱設置，Y方向上的兩組對準標記關于所述掩模板的中心對稱設置；

投影組件，位于所述掩模板下方，用于將所述掩模對準標記組合成像；

基準板，位于所述工件臺上，用于承載對應所述掩模對準標記組合的基準參考標記組合；

輻射探測組件，位于所述基準板下方，用于接收依次經過所述掩模對準標記組合、投影組件及基準參考標記組合的對準光束，并得到對應每組對準標記的對準位置信息；

計算組件，根據所述對準位置信息得到所述基準板的位姿信息；

在測量所述基準板的位姿信息之前，利用所述輻射探測組件多次進行探測，以得到對應X方向上的每組對準標記的多個對準位置信息(x₁₁，z₁₁)…(x_1i，z_1i)和(x₂₁，z₂₁)…(x_2i，z_2i)及對應Y方向上的每組對準標記的多個對準位置信息(y₁₁，z₃₁)…(y_1i，z_3i)和(y₂₁，z₄₁)…(y_2i，z_4i)，其中，_i大于或等于2；

根據對應X方向上的每組對準標記的多個對準位置信息及對應Y方向上的每組對準標記的多個對準位置信息得到所述輻射探測組件的重復度指標，并利用所述輻射探測組件探測的信息及所述重復度指標得到每組對準標記的對準位置信息。

2.如權利要求1所述的掩模對準系統，其特征在于，每組所述對準標記均為一個光柵，其中，在X方向上的兩個光柵沿X方向延伸，在Y方向上的兩個光柵沿Y方向延伸。

3.如權利要求1或2所述的掩模對準系統，其特征在于，所述掩模對準標記組合還包括一歸一化標記，所述歸一化標記位于所述掩模板的中心。

4.如權利要求1所述的掩模對準系統，其特征在于，所述基準板的位姿信息包括沿X方向、Y方向及Z方向的位置信息和繞X方向、Y方向及Z方向旋轉的姿態信息。

5.一種光刻裝置，其特征在于，包括如權利要求1-4中任一項所述的掩模對準系統。

6.一種利用如權利要求1-4中任一項所述的掩模對準系統進行掩模對準的方法，其特征在于，包括：

照明組件發出對準光束照射至掩模板的掩模對準標記組合上，并被投影組件投影至位于基準板上的基準參考標記組合上；

移動工件臺使輻射探測組件接收對準光束，并得到對應每組對準標記的對準位置信息；

計算組件根據多個所述對準位置信息得到所述基準板的位姿信息；

在測量所述基準板的位姿信息之前，所述掩模對準方法還包括：

利用所述輻射探測組件多次進行探測，以得到對應X方向上的每組對準標記的多個對準位置信息(x₁₁，z₁₁)…(x_1i，z_1i)和(x₂₁，z₂₁)…(x_2i，z_2i)及對應Y方向上的每組對準標記的多個對準位置信息(y₁₁，z₃₁)…(y_1i，z_3i)和(y₂₁，z₄₁)…(y_2i，z_4i)，其中，_i大于或等于2；

根據對應X方向上的每組對準標記的多個對準位置信息及對應Y方向上的每組對準標記的多個對準位置信息得到所述輻射探測組件的重復度指標，并利用所述輻射探測組件探測的信息及所述重復度指標得到每組對準標記的對準位置信息。