[發明專利]半導體NbNO納米棒及其制備方法與應用有效
| 申請號: | 201911143604.0 | 申請日: | 2019-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN110935483B | 公開(公告)日: | 2021-10-29 |
| 發明(設計)人: | 李鑫;沈榮晨 | 申請(專利權)人: | 華南農業大學 |
| 主分類號: | B01J27/24 | 分類號: | B01J27/24;B01J35/02;C01B3/04 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102 | 代理人: | 周建軍 |
| 地址: | 510642 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 nbno 納米 及其 制備 方法 應用 | ||
本發明提供一種半導體NbNO納米棒及其制備方法與應用,其制備方法包括:提供NbCl5,700?900℃下煅燒,得到NbO納米棒,將所得NbO納米棒置于氨氣氛圍下煅燒,煅燒溫度為700?900℃,得到所述半導體NbNO納米棒。本發明NbNO半導體光催化劑的制備方法操作簡單,適用性廣,重復性好,適用范圍廣,在降低光催化成本和在光催化制氫方面提供了一種可靠的方案。
技術領域
本發明涉及催化劑領域,特別是涉及一種半導體NbNO納米棒及其制備方法與應用。
背景技術
為了解決能源危機和環境污染的問題,氫氣作為化石燃料的理想替代品受到了廣泛關注。在1972年由Fujishima和Honda提出光電化學分解水的概念后,研究人員開發了各種光催化劑,包括氧化物、硫化物、氮化物、氮氧化物、碳化物及其復合材料。但是,其自身存在缺點,如高的電子空穴復合率、可見光吸收不足、低的比表面積、表面反應活化位點少、表面反應動力學緩慢、不高的氧化能力和低的電荷遷移率等。另外光生空穴的氧化能力只能氧化水產氧,而不是形成非選擇性的羥基自由基·OH。這需要降低半導體的VB位置以增強它的水氧化能力。上述缺點大大限制了其光催化性能。
目前半導體光催化劑的改性策略主要圍繞帶隙工程、缺陷控制、形貌調控、構建異質結和助催化劑負載等展開。其中半導體光催化劑主要是g-C3N4、TiO2、CdS等,這些光催化劑都已得到充分的研究,g-C3N4的聚合度較低,活性較差,TiO2的可見光利用率低,CdS的不穩定,且為重金屬。
發明內容
鑒于以上所述現有技術的缺點,本發明的目的在于提供一種半導體光催化劑NbNO納米棒及其制備方法與應用,用于解決現有技術中光催化劑的制備成本較高、活性較低、不穩定、含有重金屬等問題。
為實現上述目的及其他相關目的,本發明提供一種半導體NbNO納米棒的制備方法,包括:提供NbCl5,煅燒,得到NbO納米棒,將所得NbO納米棒置于氨氣氛圍下煅燒,得到所述半導體NbNO納米棒。
可選地,煅燒NbCl5時,溫度為700-900℃,還可以為800-900℃,具體可以為700℃、750℃、800℃、850℃、900℃等。
可選地,煅燒NbCl5的時間為4-12h,還可以為4-10h,還可以為4-8h,具體可以為4h、5h、6h、7h、8h、9h、10h、11h、12h等。
可選地,煅燒NbCl5結束后,用水洗滌所得NbO納米棒,得到洗凈后的NbO納米棒,再將其置于氨氣氛圍下煅燒。
可選地,氨氣氛圍下煅燒溫度為700-900℃,還可以為700-800℃,具體可以為700℃、750℃、800℃、850℃、900℃等。溫度過高可能會造成催化劑燒結。
可選地,氨氣氛圍下煅燒時間為4-12h,還可以為4-10h,還可以為4-8h,具體可以為4h、5h、6h、7h、8h、9h、10h、11h、12h等。
本發明還提供上述方法制得的半導體NbNO納米棒。
可選地,所述半導體NbNO納米棒的吸收帶邊緣接近于886nm,對應的能帶寬為1.45Ev。
可選地,所述半導體NbNO納米棒的平帶電位為-0.49eV,對應的導帶電位和價帶電位分別為-0.69和0.86eV。
本發明還提供上述半導體NbNO納米棒在制備光催化反應的催化劑中的應用。
可選地,所述光催化反應為光催化分解水產生氫氣。
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