[發(fā)明專利]激勵光照射裝置和激勵光照射方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911141237.0 | 申請日： | 2019-11-20 |
| 公開（公告）號： | CN111381198A | 公開（公告）日： | 2020-07-07 |
| 發(fā)明（設計）人： | 橋本將輝;芳井義治 | 申請（專利權）人： | 勝美達集團株式會社 |
| 主分類號： | G01R33/032 | 分類號： | G01R33/032;G01R33/24 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人： | 崔成哲;黃綸偉 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 激勵 照射 裝置 方法 | ||
1.一種激勵光照射裝置，其特征在于，
該激勵光照射裝置具有基材，該基材包含被激勵光激發(fā)的色心，
所述基材(a)具有相互對置的2個反射面和相互對置的2個端面，并且(b)使入射到所述基材的所述激勵光一邊被所述2個反射面反射一邊從所述2個端面中的一個端面?zhèn)认蛄硪粋€端面?zhèn)刃羞M，
所述另一個端面傾斜成使所述激勵光反射并從所述2個反射面中的任意一個射出。
2.根據權利要求1所述的激勵光照射裝置，其特征在于，
該激勵光照射裝置還具有入射輔助部，該入射輔助部設置在所述2個反射面中的一個反射面上，使所述激勵光從所述一個反射面入射到所述基材內。
3.根據權利要求2所述的激勵光照射裝置，其特征在于，
所述入射輔助部具有：入射面，其供所述激勵光入射；以及射出面，其與所述一個反射面接合，使所述激勵光射出，
所述入射面與所述基材的所述一個端面平行并且連續(xù)。
4.根據權利要求1所述的激勵光照射裝置，其特征在于，
所述基材使入射到所述基材的所述激勵光一邊被所述2個反射面以使全反射條件成立的方式反射一邊從所述2個端面中的一個端面?zhèn)认蛄硪粋€端面?zhèn)刃羞M，
所述另一個端面使所述激勵光反射，并傾斜成使得在所述2個反射面中的任意一個上全反射條件不成立，從而使激勵光從所述2個反射面中的任意一個射出。
5.根據權利要求1～4中的任意一項所述的激勵光照射裝置，其特征在于，
所述基材為金剛石基板。
6.一種激勵光照射方法，對基材中包含的色心照射激勵光，該激勵光照射方法的特征在于，
使入射到所述基材中的所述激勵光一邊被所述基材中的相互對置的2個反射面反射一邊從所述基材中的相互對置的2個端面中的一個端面?zhèn)认蛄硪粋€端面?zhèn)刃羞M，
在所述另一個端面上使所述激勵光反射，并通過所述另一個端面的傾斜使所述激勵光從所述2個反射面中的任意一個射出。
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