[發明專利]微納模具及其制作方法

在審

• 申請號: 201911135440.7
• 申請日: 2019-11-19
• 公開（公告）號: CN112904664A
• 公開（公告）日: 2021-06-04
• 發明（設計）人: 劉麟躍;基亮亮;周小紅
• 申請（專利權）人: 蘇州維業達觸控科技有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 上海波拓知識產權代理有限公司 31264
• 代理人: 蔡光仟

本發明公開了一種微納模具的制作方法，該制作方法包括：在基底上涂布一層導電光刻膠，導電光刻膠包括光刻膠和導電漿；對導電光刻膠進行化學刻蝕并形成具有圖案的凹槽；在導電光刻膠上形成一層金屬層，并在金屬層上形成與凹槽對應的凸起；將金屬層與導電光刻膠進行剝離并得到具有圖案的微納模具。該制作方法用于制作微納模具，其步驟簡單，制作周期短，制作效率高，微納模具的外觀品質好。本發明公開了一種微納模具，該微納模具通過如上所述的制作方法制成。

技術領域

本發明涉及納米壓印技術領域，特別是涉及一種微納模具及其制作方法。

背景技術

隨著微納器件的發展，傳統機械制造技術已不能滿足這些微機械和微系統的高精度制造和裝配加工要求,微納制造技術是微傳感器、微執行器、微結構和功能微納系統制造的基本手段和重要基礎。微納壓印是微納制造的關鍵技術。微納壓印離不開模具，傳統的模具制作工藝：光刻、顯影、蝕刻、金屬生長工藝步驟繁多，復雜，生產效率較低。且金屬生長工藝普遍需要對光刻膠板表面進行預處理使其導電，常用的方法真空蒸發金屬鍍，噴涂銀膜，工藝復雜且代價昂貴，化學鍍的方法，代價較低，但所用化學藥品使帶入雜質的幾率增大，影響金屬模具外觀品質，特別是在對光刻膠板表面進行預處理使其導電的工藝，帶入雜質的幾率更大，增加工藝的難度。

發明內容

為了克服現有技術中存在的缺點和不足，本發明的目的在于提供一種微納模具及其制作方法，以解決現有技術中工藝復雜、效率低以及品質差的問題。

本發明的目的通過下述技術方案實現：

本發明提供一種微納模具的制作方法，該制作方法包括：

在基底上涂布一層導電光刻膠，該導電光刻膠包括光刻膠和導電漿；

對該導電光刻膠進行化學刻蝕并形成具有圖案的凹槽；

在該導電光刻膠上形成一層金屬層，并在該金屬層上形成與該凹槽對應的凸起；

將該金屬層與該導電光刻膠進行剝離并得到具有圖案的微納模具。

進一步地，在該基底上涂布一層該導電光刻膠的步驟具體為：

先將該光刻膠與該導電漿進行混合并形成該導電光刻膠，然后將該導電光刻膠涂布在該基底上；

或者，先將該光刻膠與該導電漿同時涂布在該基底上，然后將該光刻膠與該導電漿混合形成該導電光刻膠。

進一步地，該制作方法還包括：將剝離后的該微納模具表面通過弱堿溶液進行處理，除去該微納模具表面上殘留的該導電光刻膠。

進一步地，對該導電光刻膠進行化學刻蝕并形成具有圖案的凹槽的步驟具體為：

先對該導電光刻膠進行曝光，然后再顯影形成具有圖案的凹槽。

進一步地，該凹槽的深度小于該導電光刻膠的厚度。

進一步地，該導電光刻膠厚度的取值范圍為3-16um，該凹槽深度的取值范圍為2-15um，該凹槽寬度的取值范圍為2-15um。

進一步地，該凹槽的截面形狀包括矩形、梯形或三角形。

進一步地，該微納模具厚度的取值范圍為150-350um。

進一步地，該金屬層的材料包括鎳、銅、鐵、金中的一種或多種。

本發明還提供了一種微納模具，該微納模具通過如上所述的制作方法制成。