[發(fā)明專利]帶運動磁板平面陰極的磁材鍍膜生產(chǎn)線

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• 申請日: 2019-11-19
• 公開（公告）號: CN110670039A
• 公開（公告）日: 2020-01-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 朱剛毅;朱剛勁;朱文廓
• 申請（專利權(quán)）人: 廣東騰勝科技創(chuàng)新有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/14;H01F41/18
• 代理公司: 44245 廣州市華學(xué)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 官國鵬

本發(fā)明涉及帶運動磁板平面陰極的磁材鍍膜生產(chǎn)線，包括沿著磁材運行路徑設(shè)置的至少兩個低真空室、至少兩個高真空室、鍍膜室，安裝在鍍膜室的運動機構(gòu)和動力裝置；鍍膜室的兩側(cè)分別至少設(shè)置一個低真空室和至少設(shè)置一個高真空室；平面陰極包括磁板，安裝在磁板上的多個磁鋼，位于磁鋼下方的靶材；動力裝置的輸出端連接在運動機構(gòu)上，運動機構(gòu)的輸出端連接在磁板上。磁材鍍膜生產(chǎn)線大幅提高靶材利用率，既降低稀有材料的消耗，也實現(xiàn)高性能、低成本的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，屬于真空鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及真空鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及帶運動磁板平面陰極的磁材鍍膜生產(chǎn)線。

背景技術(shù)

目前市場使用的磁材鍍膜生產(chǎn)線均采用固定磁板的平面陰極，由于鋱、鏑稀有金屬成本昂貴，采用固定磁板的平面陰極靶材刻蝕區(qū)域呈雙U形狀，中間部分無法刻蝕，導(dǎo)致靶材利用率低，導(dǎo)致生產(chǎn)線鍍膜成本高居不下。

發(fā)明內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題，本發(fā)明的目的是：提供帶運動磁板平面陰極的磁材鍍膜生產(chǎn)線，大幅提高靶材利用率，既降低稀有材料的消耗，也實現(xiàn)高性能、低成本的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。

為了達到上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：

帶運動磁板平面陰極的磁材鍍膜生產(chǎn)線，包括沿著磁材運行路徑設(shè)置的至少兩個低真空室、至少兩個高真空室、鍍膜室，安裝在鍍膜室的運動機構(gòu)和動力裝置；鍍膜室的兩側(cè)分別至少設(shè)置一個低真空室和至少設(shè)置一個高真空室；平面陰極包括磁板，安裝在磁板上的多個磁鋼，位于磁鋼下方的靶材；動力裝置的輸出端連接在運動機構(gòu)上，運動機構(gòu)的輸出端連接在磁板上。

進一步的是：磁材鍍膜生產(chǎn)線還包括輸送機構(gòu)和托板，托板放置在輸送機構(gòu)上，磁材放置在托板上。

進一步的是：輸送機構(gòu)包括傳動輥，托板放置在傳動輥上。

進一步的是：鍍膜室上至少設(shè)置有一個平面陰極、至少一個動力裝置、至少一個運動機構(gòu)。

進一步的是：磁鋼的列數(shù)為三列或者三列以上。

進一步的是：平面陰極的靶材為整塊式、分塊式或者綁定式。

進一步的是：運動機構(gòu)為滑軌滑塊運動機構(gòu)或者滾輪軌道運動機構(gòu)。

進一步的是：動力裝置采用編程模塊電氣控制。

進一步的是：動力裝置的動力形式為電動、氣動或者液壓。

進一步的是：低真空室為抽真空室或者過渡室，高真空室為過渡室或者緩沖室。

總的說來，本發(fā)明具有如下優(yōu)點：

本磁材鍍膜生產(chǎn)線在現(xiàn)有的磁材鍍膜生產(chǎn)線上，運用運動磁板平面陰極，通過動力裝置和運動機構(gòu)帶動磁板進行勻速或變速運動，使得平面陰極工作輝光隨著磁板運動而運動，實現(xiàn)平面陰極的靶材刻蝕區(qū)域平緩，從而大幅提高靶材利用率。運動磁板可通過編程模塊設(shè)計，實現(xiàn)變速或勻速運動，可針對不同工藝進行選擇，工藝范圍廣，設(shè)備升級空間大。運動磁板的平面陰極，靶材刻蝕區(qū)域加寬加大，大幅提升靶材利用率，減少靶材的浪費。高靶材利用率大幅降低設(shè)備鍍膜成本，提高產(chǎn)品性價比。本磁材鍍膜生產(chǎn)線適用于在磁材表面鍍鋱或鍍鏑等膜層。產(chǎn)品可作為汽車領(lǐng)域、工業(yè)電機、風(fēng)力發(fā)電、節(jié)能電梯、變頻空調(diào)、消費類電子等領(lǐng)域的電機用高性能磁材使用。

附圖說明

圖1是本磁材鍍膜生產(chǎn)線的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是鍍膜室上第一種平面陰極的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3是鍍膜室上第二種平面陰極的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4是鍍膜室上第三種平面陰極的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5是鍍膜室上第四種平面陰極的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式