[發(fā)明專利]一種復(fù)合SERS基底及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911126901.4 | 申請日： | 2019-11-18 |
| 公開（公告）號： | CN110697650B | 公開（公告）日： | 2022-11-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 張景然;王宇;賈天棋;石廣豐;李俊燁;許穎;趙偉宏 | 申請（專利權(quán)）人： | 長春理工大學(xué) |
| 主分類號： | B81C1/00 | 分類號： | B81C1/00;G01N21/65 |
| 代理公司： | 北京高沃律師事務(wù)所 11569 | 代理人： | 王術(shù)娜 |
| 地址： | 130022 吉林*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 復(fù)合 sers 基底 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種復(fù)合SERS基底的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
采用納米壓痕儀在二維材料的表層制備微納結(jié)構(gòu)，得到復(fù)合SERS基底；
所述二維材料包括疊層設(shè)置的金屬底層和石墨烯表層；
所述納米壓痕儀的工作參數(shù)包括：采用金剛石三棱錐探針，所述金剛石三棱錐探針的三個(gè)面間的夾角為120°。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述微納結(jié)構(gòu)的深度為0.1～2μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述微納結(jié)構(gòu)為陣列微納結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，形成所述金屬底層的金屬包括金、銀或銅。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的制備方法，其特征在于，所述金屬底層的厚度為5～10μm，所述石墨烯表層的厚度為1～3nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述納米壓痕儀的工作參數(shù)包括：X方向工作臺的加載速率為3～5μm/s，Y方向工作臺的加載速率為1～5μm/s，Z方向的垂直載荷為0～30mN。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述金剛石三棱錐探針的圓弧半徑200nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的制備方法，其特征在于，所述垂直載荷為恒力或變力；
所述垂直載荷的力調(diào)制信號包括對稱三角波、非對稱三角波、正弦波或方波。
9.權(quán)利要求1～8任一項(xiàng)所述制備方法制備的復(fù)合SERS基底。
10.權(quán)利要求1～8任一項(xiàng)所述制備方法制備的復(fù)合SERS基底或權(quán)利要求9所述復(fù)合SERS基底在化學(xué)農(nóng)藥分子檢測中的應(yīng)用。
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