[發明專利]成膜裝置以及成膜系統

在審

• 申請號: 201911115831.2
• 申請日: 2019-11-15
• 公開（公告）號: CN111690895A
• 公開（公告）日: 2020-09-22
• 發明（設計）人: 本田淳雄
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;C23C14/56;H01L51/56
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 鄧宗慶

本發明涉及成膜裝置以及成膜系統。尋求在真空腔的內部為大氣壓的狀態和被減壓后的狀態下施加于腿部的載荷平衡的變化小且對準機構的動作精度高的成膜裝置。成膜裝置具有：能夠對內部進行減壓的真空腔和將所述真空腔的底面支承于地面的多個腿部，其特征在于，所述真空腔具有在投影于所述地面時投影形狀為N邊形的形狀，所述成膜裝置具有N+1個以上的所述多個腿部，所述多個腿部向所述地面投影的投影位置處于包含在所述真空腔的投影形狀內的環形區域內。

技術領域

本發明涉及使用腿部設置于地面的成膜裝置。尤其是，涉及具備能夠對內部進行減壓的真空腔的成膜裝置。

背景技術

近年來，自發光型且視角、對比度、響應速度優異的有機EL元件被廣泛地應用于以壁掛式電視為代表的各種顯示裝置。

通常，有機EL元件通過將基板送入成膜腔內并在基板上形成規定圖案的有機膜的方法來制造。更詳細地說，經過向被減壓后的成膜腔內送入基板的工序、使基板與掩模高精度地對位(對準)的工序、成膜有機材料的工序、將已成膜的基板從成膜腔送出的工序等來制造。

為了實施該制造工序，成膜裝置具備能夠對內部進行減壓的真空腔和附帶設置于該真空腔的對準機構等。

由于具備作為耐大氣壓容器的真空腔的成膜裝置是重量大的裝置，因此，不是將真空腔的底面直接載置于地面，而是經由多個腿部設置于地面。

在專利文獻1中，雖然不是成膜裝置的領域，但在重量大的MRI裝置中，記載有對裝置的底面進行支承的能夠彈性變形的支承腿。在俯視時具有圓形形狀的MRI裝置中，公開了為了對靜磁場產生源因裝置的底面振動而振動進行抑制而改良的支承腿。

在先技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2007-222431號公報

近年來，隨著成膜裝置處理的基板尺寸的大型化，成膜裝置的真空腔存在大型化的傾向。若真空腔大型化而使底板、頂板、側板的面積變大，則在對腔室內進行減壓時，這些板材被大氣壓推壓而較大地變形。

在此，列舉圖5(a)所示的成膜裝置為一例進行說明。圖5(a)是示意性地表示腔室內被減壓前、即腔室內成為大氣壓的狀態的成膜裝置的剖視圖。圖中的附圖標記1000是成膜裝置，101是真空腔的頂板，102是真空腔的側板，103是真空腔的底板，頂板101、側板102以及底板103相互接合而形成氣密容器。104是腔室內空間，115是蒸鍍源。在腔室內空間104，在隔著掩模113與基板111相向的位置配置有蒸鍍源115。基板111由基板支承部112支承，掩模113由掩模支承部114支承?；逯С胁?12和掩模支承部114在確保氣密性的狀態下貫穿頂板101而延伸至真空腔的外側，并與對準機構117連接。對準機構117對基板支承部112以及/或者掩模支承部114的姿勢進行調整來進行基板111和掩模113的對位。

在底板103的下表面固定有用于支承成膜裝置1000的腿部106A～腿部106F，在腔室內成為大氣壓的狀態下，腿部106A～腿部106F全部與地面118接地。腿部106A～腿部106F通過連結部件120連結，整體構成基座。

在圖5(b)中示出成膜裝置1000的仰視圖，在真空腔的矩形的底面附設有作為結構加強件的肋144、作為排氣裝置的泵145等。腿部106A～腿部106F避開設置有肋144、真空泵的場所而配置。為了進行成膜，若驅動真空泵來對真空腔內進行減壓，則真空腔的壁由于與大氣壓的壓力差而變形。

圖6是示意性地表示對真空腔內進行減壓的狀態下的成膜裝置的形狀的剖視圖。若底板103被大氣壓推壓而開始變形，則施加于各腿部的重量平衡發生變化，若底板的變形進一步變大，則腿部106A～腿部106F中的一部分腿部從地面118離開。