[發(fā)明專利]一種基于紫外線照射的細(xì)胞損傷模型制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911113635.1 | 申請(qǐng)日: | 2019-11-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110684719A | 公開(公告)日: | 2020-01-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐丹;張娟;涂穎;顏光前;起玨;崔婷婷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 昆明醫(yī)科大學(xué)第一附屬醫(yī)院 |
| 主分類號(hào): | C12N5/071 | 分類號(hào): | C12N5/071;C12N13/00 |
| 代理公司: | 11390 北京和信華成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人: | 張永輝 |
| 地址: | 650034 *** | 國省代碼: | 云南;53 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 培養(yǎng)基 胰蛋白酶消化液 細(xì)胞損傷模型 紫外線照射 原代細(xì)胞 六孔板 接種 消毒 人體正常細(xì)胞 正常皮膚組織 正常人體組織 培養(yǎng)基放置 消化 單個(gè)細(xì)胞 皮膚組織 人類皮膚 實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù) 體外培養(yǎng) 高純度 培養(yǎng)箱 細(xì)胞液 碘伏 切取 貼壁 制備 增殖 生長 成功 | ||
1.一種基于紫外線照射的細(xì)胞損傷模型制備方法,其特征在于:所述方法包括以下步驟:
S1:切取臨床手術(shù)中的人體正常皮膚組織,通過碘伏進(jìn)行消毒,消毒完成后,使用0.25%胰蛋白酶消化液消化皮膚組織,將組織分散成單個(gè)細(xì)胞,然后將細(xì)胞液放在適宜的培養(yǎng)基中,將培養(yǎng)基放置在培養(yǎng)箱中培養(yǎng),讓這些原代細(xì)胞生長和增殖;
S2:原代細(xì)胞24小時(shí)左右后貼壁長滿培養(yǎng)基,然后再用0.25%胰蛋白酶消化液消化,換上新的培養(yǎng)基并接種到多個(gè)六孔板上,六孔板上的接種密度約為5X104/ml,接種后的各個(gè)六孔板放入培養(yǎng)箱中培養(yǎng)直至貼壁,再更換新的培養(yǎng)基,用于進(jìn)一步實(shí)驗(yàn),將多個(gè)六孔板分為正常對(duì)照組,以及各個(gè)照射時(shí)間段的實(shí)驗(yàn)組;
S3:將六孔板放置在超凈臺(tái)上,超凈臺(tái)里面設(shè)置紫外燈,紫外燈先預(yù)熱15min,使光源發(fā)出的光強(qiáng)度穩(wěn)定,將已經(jīng)接種的六孔板置于紫外燈下,通過紫外燈對(duì)六孔板進(jìn)行照射,根據(jù)照射時(shí)間的不同得到不同的細(xì)胞損傷模型。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于紫外線照射的細(xì)胞損傷模型制備方法,其特征在于:所述S1中的人體正常皮膚組織為包皮環(huán)切術(shù)中切出的正常皮膚組織或美容皮膚切除手術(shù)中切出的正常皮膚組織。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于紫外線照射的細(xì)胞損傷模型制備方法,其特征在于:所述S1中培養(yǎng)箱內(nèi)細(xì)胞的生存環(huán)境設(shè)置為37攝氏度、5%CO2和PH7.2-7.4。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于紫外線照射的細(xì)胞損傷模型制備方法,其特征在于:所述S1和S2中培養(yǎng)基的配制方法設(shè)置為:超凈工作臺(tái)內(nèi)取一定量的MEM-α基礎(chǔ)培養(yǎng)基于無菌、干凈的瓶內(nèi),加入50U/ml青霉素、100U/ml鏈霉素、血清、三蒸水、表皮生長因子,并通過鹽酸調(diào)節(jié)PH至7.2-7.4,通過磁力攪拌器攪拌均勻,0.22um過濾器過濾后轉(zhuǎn)移至新的瓶內(nèi),4攝氏度冰箱保存?zhèn)溆谩?/p>
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于紫外線照射的細(xì)胞損傷模型制備方法,其特征在于:所述S3中紫外燈發(fā)出的紫外線設(shè)置為UVA、UVB或UVC波段,且紫外燈距離六孔板的垂直距離為25cm,紫外燈的照射強(qiáng)度通過輻照計(jì)測得,紫外線波段、照射強(qiáng)度和照射時(shí)間均記錄在標(biāo)簽上,貼在得到的細(xì)胞損傷模型上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于紫外線照射的細(xì)胞損傷模型制備方法,其特征在于:所述S1-S3期間不進(jìn)行自然采光,采用紅光照明。
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