[發明專利]廢氣處理系統

在審

• 申請號: 201911102121.6
• 申請日: 2019-11-12
• 公開（公告）號: CN112844010A
• 公開（公告）日: 2021-05-28
• 發明（設計）人: 李建霖;曾偉庭
• 申請（專利權）人: 漢科系統科技股份有限公司
• 主分類號: B01D53/76
• 分類號: B01D53/76;B01D53/18;B01D47/06;G01N1/22
• 代理公司: 上海一平知識產權代理有限公司 31266
• 代理人: 李夫玲;須一平

一種廢氣處理系統，包含入口洗滌單元、連通于所述入口洗滌單元的反應單元，及連通于所述反應單元的出口洗滌單元。所述入口洗滌單元包括界定出第一內空間的入口本體，及設置于所述入口本體的入口輔助模組。所述入口輔助模組具有設置于所述入口本體且具有朝向所述第一內空間的第一通口的入口殼部、設置于所述入口殼部且具有一連通于所述第一內空間的第一采樣孔的第一采樣管、連接于所述第一采樣管的第一氣壓感測器，及經與第一采樣孔朝向同側的所述第一通口與所述第一內空間連通的第一氮氣供應管，能不影響壓力檢測地對所述第一內空間供應氮氣。

技術領域

本發明涉及一種工業制程的污染物處理設備，特別是涉及一種廢氣處理系統。

背景技術

參閱圖1，為一現有的廢氣處理設備1，包含一適用于與前端制造設備(圖未示)連通的入口洗滌單元11、一與所述入口洗滌單元11連通的反應單元12、一與所述反應單元12連通的出口洗滌單元13，及一用于盛接洗滌廢水的水槽14。所述入口洗滌單元11包括一界定出一內空間100的本體110、一設置于所述本體110且連通于所述內空間100的氮氣供應管111，及一與所述氮氣供應管111相間隔地設置于所述本體110，且用于偵測所述內空間100的氣壓值的壓力偵測模組112。所述氮氣供應管111用于對所述內空間100供應氮氣，因為所述氮氣屬于化學反應的惰性氣體，除了能配合額外導入的反應氣體而調整氣體濃度，還能在不產生化學反應的情況下促進所述內空間100中的氣體流動，并且提供氣體運動的額外動能，借此降低廢氣中的粉塵顆粒沾附于所述本體110的內壁面的機會。

然而，為了確實偵測所述內空間100中的氣體壓力，所述壓力偵測模組112勢必需要直接采樣所述內空間100中的氣體，因此雖然通過所述氮氣供應管111能減少粉塵顆粒沾附于所述本體110的情況，但卻難以保障所述壓力偵測模組112不被廢氣的粉塵顆粒影響。當所述壓力偵測模組112沾附廢氣的粉塵顆粒，甚至被所述粉塵顆粒阻塞，當然會影響壓力偵測的準確性，對于依靠所述內空間100中的壓力值而執行判斷的自動化運作而言，勢必也會產生不良的影響，甚至可能影響到所述廢氣處理設備1運作的安全性。

發明內容

本發明的目的在于提供一種能確保壓力偵測正常運作的廢氣處理系統。本發明廢氣處理系統，包含入口洗滌單元、連通于所述入口洗滌單元下游的反應單元，及連通于所述反應單元下游的出口洗滌單元。

所述入口洗滌單元包括界定出第一內空間的入口本體，及設置于所述入口本體的入口輔助模組。所述入口輔助模組具有設置于所述入口本體且具有朝向所述第一內空間的第一通口的入口殼部、設置于所述入口殼部且具有連通于所述第一內空間且與所述第一通口朝向同側的第一采樣孔的第一采樣管、連接于所述第一采樣管的第一氣壓感測器，及連接于所述入口殼部且經所述第一通口連通于所述第一內空間的第一氮氣供應管。

本發明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現。

較佳地，前述的廢氣處理系統，其中，所述出口洗滌單元包括界定出第二內空間的出口本體，及設置于所述出口本體的出口輔助模組，所述出口輔助模組具有設置于所述出口本體且具有朝向所述第二內空間的第二通口的出口殼部、設置于所述出口殼部且具有連通于所述第二內空間且與所述第二通口朝向同側的第二采樣孔的第二采樣管、連接于所述第二采樣管的第二氣壓感測器，及連接于所述出口殼部且經所述第二通口連通于所述第二內空間的第二氮氣供應管。較佳地，前述的廢氣處理系統，其中，所述入口輔助模組的所述入口殼部圍繞界定出入口腔室，所述第一氮氣供應管連通于所述入口腔室。