[發明專利]清潔設備的回送方法

在審

• 申請號: 201911097405.0
• 申請日: 2019-11-10
• 公開（公告）號: CN112774325A
• 公開（公告）日: 2021-05-11
• 發明（設計）人: 梁侃
• 申請（專利權）人: 梁侃
• 主分類號: B01D46/00
• 分類號: B01D46/00;B01D46/10;B01D46/48
• 代理公司: 西安啟誠專利知識產權代理事務所(普通合伙) 61240
• 代理人: 馮亮

一種清潔設備的回送方法，憑借清潔設備中回旋通路的送氣孔一同積灰器經由通路導通；伴著不少顆粒物雜質的氣體抵達回旋通路后朝更低位置移行，這樣氣體移動向同顆粒物雜質下行向一致，由此朝更低位置移動的氣體利于顆粒物雜質下行；另外不小的顆粒物雜質也就于回旋通路里下行。有效避免了現有技術中清潔設備伴隨有回流周期短、高壓氣體耗損不小的缺陷。

技術領域

本發明涉及清潔設備技術領域，具體涉及一種清潔設備的回送方法。

背景技術

執行者根據各異的狀態研制了各異架構的清潔設備,目下的噴霧型清潔設備；回流型篩柱清潔設備；避免膨脹清潔設備。還有要匹配冶金車刨與打磨這樣顆粒物雜質不少的狀態給以的清潔設備，這些清潔設備伴隨有回流周期短，高壓氣體耗損不小的缺陷。

發明內容

為解決上述問題，本發明提供了一種清潔設備的回送方法，有效避免了現有技術中清潔設備伴隨有回流周期短、高壓氣體耗損不小的缺陷。

為了克服現有技術中的不足，本發明提供了一種清潔設備的回送方法的解決方案，具體如下：

一種清潔設備的回送方法，憑借清潔設備中回旋通路的送氣孔一同積灰器經由通路導通；伴著不少顆粒物雜質的氣體抵達回旋通路后朝更低位置移行，這樣氣體移動向同顆粒物雜質下行向一致，由此朝更低位置移動的氣體利于顆粒物雜質下行；另外不小的顆粒物雜質也就于回旋通路里下行；

抵達回流清掉顆粒物雜質組件里的氣體帶著顆粒物雜質數目降低，經由回流清掉顆粒物雜質組件的處置，氣體里百分之八十五的顆粒物雜質被集聚；也就是，只有不多的顆粒物雜質抵達篩板清掉顆粒物雜質組件里，這樣顆粒物雜質數目就要小于篩板清潔設備的清掉顆粒物雜質閾值。

所述清潔設備包括回旋通路、回流清掉顆粒物雜質組件、篩板清掉顆粒物雜質組件與送氣扇；

回流清掉顆粒物雜質組件的個數是兩對，兩對回流清掉顆粒物雜質組件方形分布；兩對回流清掉顆粒物雜質組件構成的回流清掉顆粒物雜質主體外邊部配備著罩體一。

罩體一的下端配備著積灰拉伸盒，回流清掉顆粒物雜質組件的進灰孔都同積灰拉伸盒面對面相向。

回旋通路縱向配備，回旋通路處在罩體一的外邊部，回旋通路的上端配備著送氣孔一，回旋通路的下端配備著出灰槽，回旋通路的邊部表面配備著排氣孔一。

積灰拉伸盒處于拉出狀態之際，出灰槽同積灰拉伸盒面對面相對。

本發明的有益效果為：

導進篩板除塵組件的顆粒物雜質量不多，由此能加大回轉方式的距離時段。

具體實施方式

下面將結合實施例對本發明做進一步地說明。

本實施例的清潔設備的回送方法，憑借清潔設備中回旋通路的送氣孔一同積灰器經由通路導通；伴著不少顆粒物雜質的氣體抵達回旋通路后朝更低位置移行，這樣氣體移動向同顆粒物雜質下行向一致，由此朝更低位置移動的氣體利于顆粒物雜質下行；另外不小的顆粒物雜質也就于回旋通路里下行；

抵達回流清掉顆粒物雜質組件里的氣體帶著顆粒物雜質數目降低，經由回流清掉顆粒物雜質組件的處置，氣體里百分之八十五的顆粒物雜質被集聚；也就是，只有不多的顆粒物雜質抵達篩板清掉顆粒物雜質組件里，這樣顆粒物雜質數目就要小于篩板清潔設備的清掉顆粒物雜質閾值，確保篩板清潔設備可長時間高效運行，即顯著延長反吹間隔時間，進而顯著降低壓縮空氣消耗量。

所述清潔設備包括回旋通路、回流清掉顆粒物雜質組件、篩板清掉顆粒物雜質組件與送氣扇；

回流清掉顆粒物雜質組件的個數是兩對，兩對回流清掉顆粒物雜質組件方形分布；兩對回流清掉顆粒物雜質組件構成的回流清掉顆粒物雜質主體外邊部配備著罩體一。