[發明專利]一種大視場消畸變離軸反射光學系統及設計方法

有效

• 申請號: 201911093643.4
• 申請日: 2019-11-11
• 公開（公告）號: CN110908098B
• 公開（公告）日: 2021-10-01
• 發明（設計）人: 袁立銀;謝佳楠;王躍明;何志平
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海技術物理研究所
• 主分類號: G02B17/06
• 分類號: G02B17/06;G02B27/00
• 代理公司: 上海滬慧律師事務所 31311
• 代理人: 郭英

1.一種大視場消畸變離軸反射光學系統，由主鏡(1)、次鏡(2)、場鏡(3)和孔徑光欄(4)組成，其特征在于：

來自無窮遠的光線經過主鏡(1)反射至次鏡(2)，再經次鏡(2)反射至場鏡(3)，最終到達像面；其中，主鏡(1)為偶次非球面離軸凸面，次鏡(2)為偶次非球面離軸凹面，場鏡(3)為凸自由曲面反射鏡；孔徑光欄(4)設置在主鏡(1)處或者在主鏡(1)和次鏡(2)之間。

2.一種如權利要求1所述的一種大視場消畸變離軸反射光學系統的設計方法，其特征在于方法如下：

先建立兩鏡系統模型，孔徑光欄(4)設置在主鏡(1)處，控制系統初級參數和像質進行優化；再在兩鏡模型中，在焦面前設置反射式場鏡(3)，通過坐標變換設置場鏡(3)繞x軸傾斜一定角度放置，設置y離軸至場鏡(3)的幾何中心附近，將面型設置為關于y軸對稱的復合多項式，加入畸變控制后進行優化，孔徑光欄(4)設置在主鏡(1)和次鏡(2)之間可實現像方遠心設計。