[發明專利]一種抑制二氧化硅蝕刻的磷酸蝕刻液

在審

• 申請號: 201911088527.3
• 申請日: 2019-11-08
• 公開（公告）號: CN110804441A
• 公開（公告）日: 2020-02-18
• 發明（設計）人: 李少平;張庭;郝曉斌;賀兆波;馮凱;王書萍;尹印;萬楊陽;張演哲
• 申請（專利權）人: 湖北興福電子材料有限公司
• 主分類號: C09K13/06
• 分類號: C09K13/06
• 代理公司: 宜昌市三峽專利事務所 42103
• 代理人: 成鋼

1.一種抑制二氧化硅蝕刻的磷酸蝕刻液，其特征在于，所述蝕刻液成分包括占蝕刻液總重量≥97%的磷酸、0.01-2%的硅化物、0.001-1%的添加劑；所述的硅化物包括含硅無機物和/或含硅有機物。

2.根據權利要求1所述的抑制二氧化硅蝕刻的磷酸蝕刻液，其特征在于，所述蝕刻液中磷酸的濃度為85%。

3.根據權利要求1所述的抑制二氧化硅蝕刻的磷酸蝕刻液，其特征在于，所述的硅化物中的含硅無機物包括二氧化硅粉末、白炭黑、硅酸鈉、四氯化硅等中的至少一種。

4.根據權利要求1所述的抑制二氧化硅蝕刻的磷酸蝕刻液，其特征在于，所述的硅化物中的含硅有機物包括硅酸四乙酯、正硅酸丁酯、三甲基氯硅烷、二甲基二氯硅烷、丙基三氯硅烷、四甲氧基硅烷等中的至少一種。

5.根據權利要求3或4所述的抑制二氧化硅蝕刻的磷酸蝕刻液，其特征在于，所述的硅化物含量優選0.05-0.5%，其中硅化物為含硅無機物和含硅有機物的混合物時，含硅無機物和含硅有機物的質量比為0.1-3 : 1。

6.根據權利要求1所述的抑制二氧化硅蝕刻的磷酸蝕刻液，其特征在于，所述的添加劑含量優選0.01-1%。

7.根據權利要求6所述的抑制二氧化硅蝕刻的磷酸蝕刻液，其特征在于，所述的添加劑包括檸檬酸、聚乙二醇、纖維素衍生物、丙二醇嵌段聚醚、脂肪酸聚乙二醇酯中的至少一種。