[發明專利]用于鍍膜機的離子源

在審

• 申請號: 201911085658.6
• 申請日: 2019-11-08
• 公開（公告）號: CN112779511A
• 公開（公告）日: 2021-05-11
• 發明（設計）人: 唐洪波;黃樂;孫桂紅;黃國興;祝海生
• 申請（專利權）人: 湘潭宏大真空技術股份有限公司
• 主分類號: C23C14/46
• 分類號: C23C14/46;C23C14/35
• 代理公司: 湖南喬熹知識產權代理事務所(普通合伙) 43262
• 代理人: 安曼

本發明提供了用于鍍膜機的離子源，包括本體、限位柱和調節板，限位柱固定連接在本體的頂部，調節板一端設有安裝孔，另一端開設有多個弧形孔，不位于本體頂部的中心，鍍膜機的殼體的頂面設有通孔，限位柱穿過殼體頂面的通孔后再穿過調節板的安裝孔。本發明的離子源本體和安裝柱通過鉸接桿鉸接，離子源本體可根據安裝需要轉動，可根據限位桿的位置和移動判斷離子源本體的位置和移動，在調節板的弧形孔中插入限位桿可限制本體的移動范圍。

技術領域

本發明涉及鍍膜生產技術領域，具體為用于鍍膜機的離子源。

背景技術

離子源是使中性原子或分子電離，并從中引出離子束流的裝置。離子源類型雖多，在鍍膜工藝中，離子源的目的主要為在線清洗，改善被鍍表面能量分布和調制增加反應氣體能量。離子源可以大大改善膜與基體的結合強度，同時膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會改善。

在鍍膜生產線中，離子源需要安裝在生產線上相應腔室的殼體上，以按照設計方向和位置引出離子束流。然而，生產線中的待鍍膜的基片是處于或移動或靜止狀態，在鍍不同的膜或在不同的工藝條件下時，需要改變引出的離子束流的方向或角度，以滿足鍍膜厚度和其它要求。

發明內容

針對現有技術存在的上述問題，本發明的目的是提供用于鍍膜機的離子源，離子源本體和安裝柱通過鉸接桿鉸接，離子源本體可根據安裝需要轉動，可根據限位桿的位置和移動判斷離子源本體的位置和移動，在調節板的弧形孔中插入限位桿可限制本體的移動范圍。

為了實現上述目的，本發明所采用的技術方案是：

用于鍍膜機的離子源，包括本體、限位柱和調節板，限位柱固定連接在本體的頂部，調節板一端設有安裝孔，另一端開設有多個弧形孔，不位于本體頂部的中心，鍍膜機的殼體的頂面設有通孔，限位柱穿過殼體頂面的通孔后再穿過調節板的安裝孔。

作為上述技術方案的進一步改進：

所述離子源還包括永磁體、電磁線圈、靶材和電信號輸出裝置，永磁體、電磁線圈、靶材和電信號輸出裝置位于本體內部。

本體為長方體形狀，本體一面上設有通孔，供轟擊靶材生成的原子、分子、離子等微粒束流通過。

本體的與設有通孔一面相鄰的兩個側面上設有多個安裝銷和安裝螺絲。

永磁體、靶材和電信號輸出裝置設置在一安裝座上，安裝座位于本體內部，安裝座通過多個安裝銷和安裝螺絲與本體連接。

多個安裝銷和安裝螺絲均勻間隔布置，安裝銷和安裝螺絲交替布置。

本體的與設有通孔一面相對的側面上設有兩個安裝柱和兩個鉸接桿，兩個安裝柱分別設在本體的兩端且相對本體的中心對稱布置，安裝柱為中空的，安裝柱內設有鉸接桿，鉸接桿的一端伸出安裝柱后鉸接本體，另一端伸出中空安裝柱的另一端。

限位柱位于頂部的邊緣。

限位柱表面開設有外螺紋，調節板的所述安裝孔內開設有內螺紋，限位柱和調節板通過螺紋連接。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：離子源本體和安裝柱通過鉸接桿鉸接，離子源本體可根據安裝需要轉動，限位桿位于鍍膜機殼體外部，可根據限位桿的位置和移動判斷離子源本體的位置和移動，在調節板的弧形孔中插入限位桿可限制調節板的移動范圍，從而限制本體的移動范圍。

附圖說明

圖1為本發明一個實施例的結構示意圖；

圖2為本發明一個實施例的安裝在鍍膜機殼體的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合實施例對本發明提供的用于鍍膜機的離子源作進一步詳細、完整地說明。下面描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本發明，而不能理解為對本發明的限制。