[發(fā)明專利]旋轉(zhuǎn)軸及包含所述旋轉(zhuǎn)軸的基板支撐裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911085484.3 | 申請日: | 2019-11-08 |
| 公開(公告)號: | CN112786512A | 公開(公告)日: | 2021-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陶曉峰;賈社娜;韓陽;王暉 | 申請(專利權(quán))人: | 盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明偉 |
| 地址: | 201203 上海市浦東新區(qū)中國*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 旋轉(zhuǎn)軸 包含 支撐 裝置 | ||
1.一種旋轉(zhuǎn)軸,其特征在于,包括:
中心轉(zhuǎn)軸,所述中心轉(zhuǎn)軸的內(nèi)部設(shè)有通氣管道,所述通氣管道的進氣口設(shè)置于所述中心轉(zhuǎn)軸的外壁,所述通氣管道的出氣口設(shè)置于所述中心轉(zhuǎn)軸軸線方向上的一端;
中空外軸,所述中空外軸環(huán)繞所述中心轉(zhuǎn)軸的軸線方向設(shè)置于所述中心轉(zhuǎn)軸的外圍,且所述中空外軸的內(nèi)壁與所述中心轉(zhuǎn)軸的外壁之間具有設(shè)定的間距;
所述中空外軸的內(nèi)壁設(shè)有導(dǎo)氣槽,所述導(dǎo)氣槽環(huán)繞所述中心轉(zhuǎn)軸的軸線方向設(shè)置,并連通所述通氣管道的進氣口;
所述中空外軸還設(shè)有供氣管道,所述供氣管道的進氣口設(shè)置于所述中空外軸的外壁,所述供氣管道的出氣口連通所述導(dǎo)氣槽;
所述中心轉(zhuǎn)軸還具有成對設(shè)置的密封環(huán)凸,所述密封環(huán)凸環(huán)繞所述中心轉(zhuǎn)軸的軸線方向設(shè)置于所述中心轉(zhuǎn)軸的外壁,且所述通氣管道的進氣口在所述中心轉(zhuǎn)軸的軸線方向上位于成對設(shè)置的所述密封環(huán)凸之間;所述中空外軸還具有成對設(shè)置的密封環(huán)槽,所述密封環(huán)槽環(huán)繞所述中心轉(zhuǎn)軸的軸線方向設(shè)置于所述中空外軸的內(nèi)壁,且所述導(dǎo)氣槽在所述中心轉(zhuǎn)軸的軸線方向上位于成對設(shè)置的所述密封環(huán)槽之間;所述密封環(huán)凸嵌設(shè)于所述密封環(huán)槽中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)軸,其特征在于,所述密封環(huán)凸和所述密封環(huán)槽為多個且一一對應(yīng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)軸,其特征在于,所述通氣管道、所述導(dǎo)氣槽和所述供氣管道為多個,多個所述導(dǎo)氣槽在所述中空外軸的內(nèi)壁上沿所述中心轉(zhuǎn)軸的軸線方向依次排列,多個所述通氣管道的進氣口在所述中心轉(zhuǎn)軸的外壁上沿所述中心轉(zhuǎn)軸的軸線方向依次排列并與所述導(dǎo)氣槽一一對應(yīng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)軸,其特征在于,所述密封環(huán)凸與所述密封環(huán)槽之間的徑向間隙小于所述密封環(huán)凸與所述密封環(huán)槽之間的軸向間隙。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)軸,其特征在于,所述密封環(huán)凸的凸起高度小于所述密封環(huán)槽的凹陷深度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)軸,其特征在于,所述密封環(huán)槽中的不同區(qū)域具有不同的凹陷深度,所述密封環(huán)槽中靠近所述導(dǎo)氣槽一側(cè)的凹陷深度大于所述密封環(huán)槽中遠離所述導(dǎo)氣槽一側(cè)的凹陷深度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)軸,其特征在于,所述中心轉(zhuǎn)軸的一端連接固定于傳動裝置,并在所述傳動裝置的帶動下繞其軸線旋轉(zhuǎn)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)軸,其特征在于,所述中空外軸的部分或全部結(jié)構(gòu)由成對的半軸抱合構(gòu)成。
9.一種基板支撐裝置,其特征在于,包括:
用于承接并固定基板的基板卡盤,所述基板卡盤設(shè)置有第一噴氣管和第二噴氣管,所述第一噴氣管和所述第二噴氣管的出氣口設(shè)置于所述基板卡盤上用于承接所述基板的承接面,所述第一噴氣管用于向所述基板噴氣并通過伯努利原理吸附所述基板,所述第二噴氣管用于向所述基板噴氣并吹浮起所述基板;
如權(quán)利要求1-8中任意一項所述的旋轉(zhuǎn)軸,所述旋轉(zhuǎn)軸的中心轉(zhuǎn)軸連接并帶動所述基板卡盤轉(zhuǎn)動,所述旋轉(zhuǎn)軸的通氣管道的出氣口連接所述第一噴氣管和所述第二噴氣管的進氣口。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板支撐裝置,其特征在于,所述第一噴氣管和所述第二噴氣管的出氣口為多個。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的基板支撐裝置,其特征在于,所述第一噴氣管的出氣口的噴氣方向傾斜于所述承接面,并與所述承接面形成設(shè)定的夾角;所述第二噴氣管的出氣口的噴氣方向垂直于所述承接面。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板支撐裝置,其特征在于,所述基板卡盤還設(shè)置有用于夾持固定所述基板的定位銷,所述定位銷通過氣缸驅(qū)動,所述氣缸通過氣缸驅(qū)動氣管連接所述旋轉(zhuǎn)軸的所述通氣管道。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板支撐裝置,其特征在于,所述基板卡盤還設(shè)置有用于將所述基板引導(dǎo)并限位于設(shè)定位置的導(dǎo)柱。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





