[發明專利]烘焙系統

在審

• 申請號: 201911084849.0
• 申請日: 2019-11-08
• 公開（公告）號: CN111180613A
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發明（設計）人: 岸本克史
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L21/67
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 程月;尹淑梅

1.一種烘焙系統，所述烘焙系統包括：

腔室，具有內部空間；

臺，設置在所述腔室的所述內部空間中，并且在所述臺上設置有目標基底；

氣體噴射結構，在所述腔室中提供工藝氣體；

排氣結構，包括設置在所述內部空間中的吸入部以及連接到所述吸入部并設置在所述腔室的外部的排氣部；

氣氛分析器，監測所述腔室中的濕氣和氧；以及

氣體供應器，基于從所述氣氛分析器提供的信息來控制所述工藝氣體的流速。

2.根據權利要求1所述的烘焙系統，所述烘焙系統還包括設置在所述吸入部與所述氣體噴射結構之間的引導部，

其中，所述引導部包括一個或更多個開口，并且

其中，所述工藝氣體通過所述引導部的所述一個或更多個開口排到所述排氣結構。

3.根據權利要求2所述的烘焙系統，所述烘焙系統還包括冷卻部，所述冷卻部設置在所述引導部中并且被構造為降低所述腔室的所述內部空間的溫度。

4.根據權利要求1所述的烘焙系統，其中，所述氣體噴射結構包括第一噴射結構和第二噴射結構，所述第二噴射結構與所述第一噴射結構間隔開并被構造為在與所述第一噴射結構產生的氣流的方向不同的方向上產生氣流。

5.根據權利要求4所述的烘焙系統，其中，所述第一噴射結構包括連接到所述氣體供應器的第一輸送管、連接到所述第一輸送管的第一分配管以及連接到所述第一分配管的第一噴射管，并且

其中，所述第一噴射管包括被構造為噴射所述工藝氣體的第一噴射孔。

6.根據權利要求5所述的烘焙系統，其中，所述第一噴射管還包括被構造為在與所述第一噴射孔噴射所述工藝氣體所沿的方向不同的方向上噴射所述工藝氣體的第二噴射孔。

7.根據權利要求4所述的烘焙系統，其中，所述第二噴射結構包括連接到所述氣體供應器的第二輸送管、連接到所述第二輸送管的第二分配管以及連接到所述第二分配管的第二噴射管，并且

其中，所述第二噴射管包括被構造為噴射所述工藝氣體的第三噴射孔。

8.根據權利要求7所述的烘焙系統，其中，所述氣體噴射結構還包括虛設部，所述虛設部設置在所述第一噴射結構與所述第二噴射結構之間并沿所述第二噴射管延伸，并且

其中，通過所述第二噴射管噴射的所述工藝氣體被所述虛設部偏轉并排到所述排氣結構。

9.根據權利要求1所述的烘焙系統，其中，所述臺包括向所述目標基底提供熱的加熱部。

10.根據權利要求1所述的烘焙系統，其中，所述臺包括被構造為將所述目標基底裝載到所述腔室中的裝載部和連接到所述裝載部的支撐部，并且

其中，所述裝載部的高度通過所述支撐部控制。

11.根據權利要求1所述的烘焙系統，其中，所述排氣結構還包括排氣控制部，所述排氣控制部連接到所述排氣部并被構造為控制所述工藝氣體的排氣量。