[發(fā)明專利]一種平面波導(dǎo)陣列光柵解復(fù)用器的測(cè)試制具及其測(cè)試方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911084679.6
• 申請(qǐng)日: 2019-11-08
• 公開（公告）號(hào): CN110779619B
• 公開（公告）日: 2021-08-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 余創(chuàng);黃望隆
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢驛路通科技股份有限公司
• 主分類號(hào): G01J1/00
• 分類號(hào): G01J1/00;G01M11/02;G01M11/00
• 代理公司: 武漢謙源知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 42251
• 代理人: 尹偉

本發(fā)明涉及一種平面波導(dǎo)陣列光柵解復(fù)用器的測(cè)試制具及其測(cè)試方法，其治具包括底座、豎直擋板、三維調(diào)節(jié)架、吸附組件和負(fù)壓組件，豎直擋板設(shè)置在底座上，豎直擋板的上端設(shè)有定位治具，三維調(diào)節(jié)架滑動(dòng)設(shè)置在底座上并位于豎直擋板的一側(cè)，且當(dāng)三維調(diào)節(jié)架滑動(dòng)至與豎直擋板接觸時(shí)，吸附組件將二者連接固定，豎直擋板上表面設(shè)有真空吸附治具，真空吸附治具的上表面設(shè)有條形槽，且條形槽內(nèi)的一端底壁與負(fù)壓組件連通。本發(fā)明通過吸附組件配合負(fù)壓組件將待測(cè)平面博導(dǎo)陣列光柵解復(fù)用器固定于三維調(diào)節(jié)架上，并通過三維調(diào)節(jié)架來回移動(dòng)，方便放入和取出，不容易在定位時(shí)發(fā)生破損，不會(huì)在測(cè)試結(jié)束后取出時(shí)發(fā)生碰撞導(dǎo)致破損，大大提高了測(cè)試效率，保證產(chǎn)品質(zhì)量。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光通訊技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種平面波導(dǎo)陣列光柵解復(fù)用器的測(cè)試制具及其測(cè)試方法。

背景技術(shù)

隨著通信技術(shù)的快速發(fā)展和實(shí)際應(yīng)用的迅猛增長(zhǎng)，大容量光纖通信系統(tǒng)的研究具有很大的應(yīng)用價(jià)值,粗波分復(fù)用系統(tǒng)（CWDM）越來越受到人們的重視。早期應(yīng)用于北美骨干網(wǎng)絡(luò)的CWDM，現(xiàn)在已經(jīng)迅速的推進(jìn)到全世界，而且廣泛應(yīng)用到了城域網(wǎng)之中。目前國(guó)內(nèi)外開發(fā)的CWDM技術(shù)主要有三種類型，他們分別基于陣列波導(dǎo)光柵和介質(zhì)膜濾光片（TFF）以及光纖光柵（FBG）技術(shù)。波導(dǎo)陣列光柵是一種平面波導(dǎo)器件，是利用PLC技術(shù)在芯片襯底上制作的陣列波導(dǎo)光柵。目前與介質(zhì)膜濾光片和光纖光柵相比，波導(dǎo)陣列光柵具有集成度高、通道數(shù)目多、插入損耗小，易于批量自動(dòng)化生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。四通道的波導(dǎo)陣列光柵CWDM目前主要應(yīng)用于100G、400G等高速有源光模塊中，而四通道的波導(dǎo)陣列光柵CWDM不同于分光器芯片的主要成分二氧化硅，其主要成分為硅基襯底，0.2mm-0.3mm厚的波導(dǎo)層為二氧化硅。

在實(shí)際使用中，為節(jié)約模塊的空間，粗波分解復(fù)用器與有源光路采取垂直耦合的方式，而粗波分復(fù)用器輸出端需研磨出41~45°的斜角，使光路可以通過反射達(dá)到與原光路垂直的目的。

因?yàn)樾酒牟馁|(zhì)為硅及二氧化硅兩種易碎材質(zhì)，且輸出端為41-45°的斜角，所以在測(cè)試時(shí)易發(fā)生如下問題：

1、定位時(shí)易發(fā)生破損；

2、測(cè)試時(shí)不易定位；

3、測(cè)試結(jié)束后取出易發(fā)生碰撞導(dǎo)致破損。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種平面波導(dǎo)陣列光柵解復(fù)用器的測(cè)試制具及其測(cè)試方法。

本發(fā)明解決上述技術(shù)問題的技術(shù)方案如下：一種平面波導(dǎo)陣列光柵解復(fù)用器的測(cè)試制具，包括底座、豎直擋板、三維調(diào)節(jié)架、吸附組件和負(fù)壓組件，所述豎直擋板設(shè)置在所述底座 上，所述豎直擋板的上端朝向所述三維調(diào)節(jié)架的一側(cè)設(shè)有用于固定高速光功率計(jì)的定位治具，所述三維調(diào)節(jié)架滑動(dòng)設(shè)置在所述底座上并位于所述豎直擋板的一側(cè)，且當(dāng)所述三維調(diào)節(jié)架滑動(dòng)至與所述豎直擋板接觸設(shè)置時(shí)，所述吸附組件將所述三維調(diào)節(jié)架與所述豎直擋板連接固定，且所述定位治具恰好懸空位于所述三維調(diào)節(jié)架的正上方，所述三維調(diào)節(jié)架上表面設(shè)有真空吸附治具，所述真空吸附治具的上表面設(shè)有用于容納待測(cè)平面波導(dǎo)陣列光柵解復(fù)用器的條形槽，且所述條形槽內(nèi)靠近待測(cè)平面波導(dǎo)陣列光柵解復(fù)用器的反射區(qū)的一端底壁與所述負(fù)壓組件連通。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明的平面波導(dǎo)陣列光柵解復(fù)用器的測(cè)試制具，通過所述吸附組件配合負(fù)壓組件將待測(cè)平面博導(dǎo)陣列光柵解復(fù)用器固定于所述三維調(diào)節(jié)架上，并通過所述三維調(diào)節(jié)架來回移動(dòng)，方便放入和取出，并在測(cè)試時(shí)通過所述吸附組件固定，方便定位，不容易在定位時(shí)發(fā)生破損，也不會(huì)在測(cè)試結(jié)束后取出時(shí)發(fā)生碰撞導(dǎo)致破損，大大提高了測(cè)試效率，并且保證了待測(cè)產(chǎn)品的質(zhì)量。

在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，本發(fā)明還可以做如下改進(jìn)：

進(jìn)一步：所述底座上位于所述豎直擋板的一側(cè)設(shè)有導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌靠近所述豎直擋板的一端與所述豎直擋板接觸設(shè)置，所述導(dǎo)軌上滑動(dòng)設(shè)有滑塊，所述三維調(diào)節(jié)架設(shè)置在所述滑塊上，且所述滑塊可帶動(dòng)所述真空吸附治具沿著所述導(dǎo)軌滑動(dòng)，以靠近或遠(yuǎn)離所述豎直擋板。