[發(fā)明專利]重量訓(xùn)練設(shè)備的副重量調(diào)整裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201911084411.2
• 申請日: 2019-11-07
• 公開（公告）號: CN112741987A
• 公開（公告）日: 2021-05-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳俊廷
• 申請（專利權(quán)）人: 清河國際股份有限公司
• 主分類號: A63B21/06
• 分類號: A63B21/06
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 吳夢圓

1.一種重量訓(xùn)練設(shè)備的副重量調(diào)整裝置，該重量訓(xùn)練設(shè)備具有一沿垂直方向上下移動(dòng)的主重量裝置，該副重量調(diào)整裝置包含：

一選擇裝置，具有一選擇件與至少一定位件，該選擇件具有至少一定位部，該選擇件以旋轉(zhuǎn)的方式設(shè)于該主重量裝置，該至少一定位件以沿水平方向移動(dòng)的方式設(shè)于該選擇件且對應(yīng)著該至少一定位部；以及

至少一副重量件，是以沿該垂直方向上下移動(dòng)的方式鄰設(shè)該主重量裝置，該至少一副重量件與該至少一定位件相互對應(yīng)，并且沿該水平方向呈直線狀或陣列狀排列；

通過該選擇件相對于該主重量裝置旋轉(zhuǎn)，該至少一定位部帶動(dòng)該至少一定位件的端部朝向該至少一副重量件延伸，進(jìn)而使不同數(shù)量的該至少一副重量件隨著該主重量裝置同步上下移動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述重量訓(xùn)練設(shè)備的副重量調(diào)整裝置，其中該選擇件具有一圓盤，該至少一定位部凹陷于該圓盤表面，且各該至少一定位部的凹陷深度不同。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述重量訓(xùn)練設(shè)備的副重量調(diào)整裝置，其中該至少一定位部之間具有導(dǎo)引斜面。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述重量訓(xùn)練設(shè)備的副重量調(diào)整裝置，其中該選擇裝置具有一基座，該選擇件樞設(shè)于該基座，該少一定位件是以可彈性復(fù)位的方式設(shè)于該基座，該至少一定位件被推往該至少一副重量件的方向。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述重量訓(xùn)練設(shè)備的副重量調(diào)整裝置，其中該至少一定位部的凹陷深度是依該選擇件的旋向依序逐漸遞增或遞減。