[發(fā)明專利]一種可實(shí)現(xiàn)緩蝕劑抑制垢下腐蝕的實(shí)驗(yàn)裝置和方法

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• 申請日: 2019-11-06
• 公開（公告）號(hào): CN112782060A
• 公開（公告）日: 2021-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蔣秀;屈定榮;許可;宋曉良;張玉平;管孝瑞;陶彬;劉全楨
• 申請（專利權(quán)）人: 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司青島安全工程研究院
• 主分類號(hào): G01N17/00
• 分類號(hào): G01N17/00
• 代理公司: 北京至臻永信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11568
• 代理人: 王正茂;徐秋燕

1.一種可實(shí)現(xiàn)緩蝕劑抑制垢下腐蝕的實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于，該實(shí)驗(yàn)裝置為一密閉容器，包括：

模擬垢層，其設(shè)置于所述實(shí)驗(yàn)裝置中并模擬實(shí)際生產(chǎn)環(huán)境中的垢層成分及厚度；

腐蝕試片，其設(shè)置于所述模擬垢層內(nèi)，設(shè)置深度與所述模擬垢層厚度相適配，同一深度的所述腐蝕試片設(shè)置數(shù)量與所述模擬垢層的截面尺寸相適配；

溶液采集口，其設(shè)于所述實(shí)驗(yàn)裝置側(cè)壁的不同高度處，用于在向所述實(shí)驗(yàn)裝置內(nèi)加入腐蝕性介質(zhì)溶液和液體緩蝕劑后、采集所述模擬垢層不同深度處的溶液并進(jìn)行后續(xù)數(shù)據(jù)分析。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可實(shí)現(xiàn)緩蝕劑抑制垢下腐蝕的實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于，所述實(shí)驗(yàn)裝置還包括設(shè)于所述實(shí)驗(yàn)裝置外側(cè)壁的標(biāo)尺，用于標(biāo)識(shí)所述腐蝕試片的設(shè)置深度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的可實(shí)現(xiàn)緩蝕劑抑制垢下腐蝕的實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于，所述實(shí)驗(yàn)裝置還包括蓋體，所述蓋體與實(shí)驗(yàn)裝置密封連接。

4.一種可實(shí)現(xiàn)緩蝕劑抑制垢下腐蝕的實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于，該實(shí)驗(yàn)裝置為一密閉容器，包括：

模擬垢層，其設(shè)置于所述實(shí)驗(yàn)裝置中并模擬實(shí)際生產(chǎn)環(huán)境中的垢層成分及厚度；

腐蝕試片，其設(shè)置于所述模擬垢層內(nèi)，設(shè)置深度與所述模擬垢層厚度相適配，同一深度的所述腐蝕試片設(shè)置數(shù)量與所述模擬垢層的截面尺寸相適配；

空心管，其固定于所述模擬垢層中并用于充填固體緩蝕劑；該空心管高度與垢層深度相同，并在不同高度處開設(shè)多個(gè)小孔；

溶液采集口，其設(shè)于所述實(shí)驗(yàn)裝置側(cè)壁的不同高度處，用于在向所述實(shí)驗(yàn)裝置內(nèi)加入腐蝕性介質(zhì)溶液并在所述固體緩蝕劑通過所述小孔滲透進(jìn)所述模擬垢層后、采集所述模擬垢層不同深度處的溶液并進(jìn)行后續(xù)數(shù)據(jù)分析。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的可實(shí)現(xiàn)緩蝕劑抑制垢下腐蝕的實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于，所述實(shí)驗(yàn)裝置還包括設(shè)于所述實(shí)驗(yàn)裝置外側(cè)壁的標(biāo)尺，用于標(biāo)識(shí)所述腐蝕試片的設(shè)置深度。

6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的可實(shí)現(xiàn)緩蝕劑抑制垢下腐蝕的實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于，所述實(shí)驗(yàn)裝置還包括蓋體，所述蓋體與實(shí)驗(yàn)裝置密封連接。

7.一種可實(shí)現(xiàn)緩蝕劑抑制垢下腐蝕的實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于，該實(shí)驗(yàn)裝置為一密閉容器，包括：

模擬垢層，其設(shè)置于所述實(shí)驗(yàn)裝置中并模擬實(shí)際生產(chǎn)環(huán)境中的垢層成分及厚度；

腐蝕試片，其設(shè)置于所述模擬垢層內(nèi)，設(shè)置深度與所述模擬垢層厚度相適配，同一深度的所述腐蝕試片設(shè)置數(shù)量與所述模擬垢層的截面尺寸相適配；

空心管，其固定于所述模擬垢層中并用于充填固體緩蝕劑；該空心管高度與垢層深度相同，并在不同高度處開設(shè)多個(gè)小孔；在使用液體緩蝕劑和所述固體緩蝕劑進(jìn)行實(shí)驗(yàn)時(shí)，所述小孔處于開啟狀態(tài)；在僅使用液體緩蝕劑進(jìn)行實(shí)驗(yàn)時(shí)，所述小孔處于堵塞狀態(tài)；

溶液采集口，其設(shè)于所述實(shí)驗(yàn)裝置側(cè)壁的不同高度處，在所述小孔處于開啟狀態(tài)下，用于在向所述實(shí)驗(yàn)裝置內(nèi)加入腐蝕性介質(zhì)溶液和液體緩蝕劑并在所述固體緩蝕劑通過所述小孔滲透進(jìn)所述模擬垢層后、采集所述模擬垢層不同深度處的溶液并進(jìn)行后續(xù)數(shù)據(jù)分析；在所述小孔處于堵塞狀態(tài)下，用于在向所述實(shí)驗(yàn)裝置內(nèi)加入腐蝕性介質(zhì)溶液和液體緩蝕劑后、采集所述模擬垢層不同深度處的溶液并進(jìn)行后續(xù)數(shù)據(jù)分析。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的可實(shí)現(xiàn)緩蝕劑抑制垢下腐蝕的實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于，所述實(shí)驗(yàn)裝置還包括設(shè)于所述實(shí)驗(yàn)裝置外側(cè)壁的標(biāo)尺，用于標(biāo)識(shí)所述腐蝕試片的設(shè)置深度。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的可實(shí)現(xiàn)緩蝕劑抑制垢下腐蝕的實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于，所述實(shí)驗(yàn)裝置還包括蓋體，所述蓋體與實(shí)驗(yàn)裝置密封連接。