[發(fā)明專利]天線陣列及電子設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911072551.8 | 申請日: | 2019-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN110783692B | 公開(公告)日: | 2021-03-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊帆 | 申請(專利權(quán))人: | OPPO廣東移動通信有限公司 |
| 主分類號: | H01Q1/24 | 分類號: | H01Q1/24;H01Q1/36;H01Q15/02;H01Q21/00;H01Q1/50 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黃威 |
| 地址: | 523860 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 天線 陣列 電子設(shè)備 | ||
1.一種天線陣列,其特征在于,包括:
曲面透鏡,包括相對的一弧面及一平面,所述弧面在所述曲面透鏡上形成凸出部;
超材料透鏡,設(shè)置在所述曲面透鏡的所述平面一側(cè),所述超材料透鏡包括介質(zhì)層,所述介質(zhì)層包括朝向所述曲面透鏡的第一表面以及背離所述曲面透鏡的第二表面,所述第一表面、所述第二表面均設(shè)置有金屬層;
多個陣列設(shè)置的輻射體,設(shè)置在所述曲面透鏡的所述弧面一側(cè)或者設(shè)置在所述超材料透鏡背離所述曲面透鏡的一側(cè),所述輻射體的輻射波束經(jīng)過所述曲面透鏡和所述超材料透鏡調(diào)節(jié)波束形狀后輻射至自由空間;
第一金屬片,設(shè)置在所述曲面透鏡和所述超材料透鏡上,所述第一金屬片與所述弧面、所述平面、所述介質(zhì)層連接;
第二金屬片,設(shè)置在所述曲面透鏡和所述超材料透鏡上,所述第二金屬片與所述第一金屬片相對設(shè)置,所述第二金屬片與所述弧面、所述平面、所述介質(zhì)層連接;其中
所述多個輻射體陣列設(shè)置在所述第一金屬片與所述第二金屬片之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的天線陣列,其特征在于,所述金屬層包括多個陣列設(shè)置的波導(dǎo)單元,所述多個波導(dǎo)單元用于傳導(dǎo)所述輻射波束,所述多個波導(dǎo)單元的尺寸在第一方向由居中位置向兩側(cè)逐漸減小,并且所述多個波導(dǎo)單元的尺寸在第二方向維持不變,其中,所述第二方向與所述第一方向垂直。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的天線陣列,其特征在于,每一所述波導(dǎo)單元包括第一子單元以及設(shè)置在所述第一子單元外側(cè)的第二子單元,所述第一子單元與所述第二子單元同心設(shè)置,所述第一子單元與所述第二子單元之間形成有等間距的間隙。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項所述的天線陣列,其特征在于,所述曲面透鏡在所述平面一側(cè)形成有焦點,所述多個輻射體中,第一輻射體的中心與所述焦點相對,所述第一輻射體之外的第二輻射體沿所述第一輻射體的兩側(cè)陣列設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項所述的天線陣列,其特征在于,所述弧面為雙曲面,所述多個輻射體設(shè)置在所述曲面透鏡的所述弧面一側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項所述的天線陣列,其特征在于,所述弧面為圓弧曲面或橢圓弧曲面,所述多個輻射體設(shè)置在所述超材料透鏡背離所述曲面透鏡的一側(cè)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項所述的天線陣列,其特征在于,所述多個輻射體的輻射波束均為水平極化波束或者均為垂直極化波束。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項所述的天線陣列,其特征在于,所述多個輻射體的輻射波束中,至少一個輻射波束為水平極化波束,至少一個輻射波束為垂直極化波束。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項所述的天線陣列,其特征在于,還包括:
信號源;
切換開關(guān),與所述信號源以及每一所述輻射體電連接,所述切換開關(guān)用于控制所述信號源接通所述多個輻射體中的一個,以控制與所述信號源接通的輻射體輻射波束。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的天線陣列,其特征在于,所述切換開關(guān)控制所述信號源依次接通一個所述輻射體,以控制所述多個輻射體依次輻射波束,使得所述天線陣列實現(xiàn)不同方向的輻射波束掃描。
11.一種電子設(shè)備,其特征在于,包括:
殼體,所述殼體上形成有容置空間;
天線陣列,設(shè)置在所述殼體的容置空間內(nèi),所述天線陣列為權(quán)利要求1至10任一項所述的天線陣列,所述天線陣列的輻射波束方向朝向所述殼體外部。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的電子設(shè)備,其特征在于,還包括處理器,所述處理器與所述天線陣列電連接,所述處理器用于控制所述天線陣列依次朝向不同方向進行輻射波束掃描,以確定輻射信號最強的輻射方向,并控制所述天線陣列朝向所述輻射信號最強的輻射方向輻射波束。
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