[發明專利]一種平面設計框架的調整方法及系統有效
| 申請號: | 201911070968.0 | 申請日: | 2019-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN110569493B | 公開(公告)日: | 2020-11-06 |
| 發明(設計)人: | 胡浩;利啟東;楊超龍;佟博;趙茜 | 申請(專利權)人: | 廣東博智林機器人有限公司 |
| 主分類號: | G06F40/186 | 分類號: | G06F40/186;G06F40/189;G06F40/103;G06F40/106;G06T11/60 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 劉夢晴 |
| 地址: | 528312 廣東省佛山市順德區北滘鎮順江*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 平面設計 框架 調整 方法 系統 | ||
本發明提供一種平面設計框架的調整方法及系統,獲取待調整平面設計框架的框架信息;確定模板框架數據庫中與框架信息的匹配度大于閾值的多個模板框架;確定模板框架的第一評分;判斷第一評分是否大于或者等于第一評分閾值;若否,調整模板框架的框架參數,重新進行評分;若是,確定模板框架的第二評分;判斷第二評分是否大于或者等于第二評分閾值;若否,調整模板框架的框架參數,重新進行評分;若是,確定模板框架為符合框架信息的模板框架。本方案中,從模板框架數據庫中獲取與框架信息匹配度大于閾值的模板框架,對模板框架進行評分,確定評分大于或者等于評分閾值的模板框架為符合框架信息的模板框架,提高為框架信息所匹配的模板框架的質量。
技術領域
本發明涉及平面設計技術領域,具體涉及一種平面設計框架的調整方法及系統。
背景技術
隨著科學技術的發展,平面設計框架的用途越來越廣泛,例如將平面設計框架應用于商品標識、出版物、廣告牌和海報等。
不同的應用場景下,平面設計框架對應多種不同尺寸。在設計平面設計框架時,通常會涉及到平面設計框架的多尺寸延展,目前調整平面設計框架的方式為:利用模板數據庫,為平面設計框架中的圖文元素匹配對應的模板。但是,由于設計師的數量和時間有限,所構建的模板數據庫中的模板數量和樣式并不完善,為平面設計框架中的圖文元素匹配的模板質量較低,即平面設計框架中的圖文元素匹配的模板存在文字不完整、圖形不完整、元素過小和平面布局不和諧等現象。
發明內容
有鑒于此,本發明實施例提供一種平面設計框架的調整方法及系統,以解決為平面設計框架中的圖文元素匹配的模板質量較低的問題。
為實現上述目的,本發明實施例提供如下技術方案:
本發明實施例第一方面公開一種平面設計框架的調整方法,所述方法包括:
獲取待調整平面設計框架的框架信息和待調整尺寸,所述框架信息至少包括:元素種類和圖層寬高;
確定預設模板框架數據庫中與所述框架信息的匹配度大于閾值的多個模板框架,所述模板框架的尺寸為所述待調整尺寸;
利用第一評分規則,確定每一所述模板框架的第一評分;
針對每一所述模板框架,判斷所述模板框架的第一評分是否大于或者等于第一評分閾值;
若所述第一評分小于所述第一評分閾值,基于預設的調整策略調整所述模板框架的框架參數,返回執行確定第一評分這一步驟;
若所述第一評分大于或者等于所述第一評分閾值,利用第二評分規則,確定所述模板框架的第二評分;
判斷所述模板框架的第二評分是否大于或者等于第二評分閾值;
若所述第二評分小于所述第二評分閾值,基于所述調整策略調整所述模板框架的框架參數,返回執行確定第二評分這一步驟;
若所述第二評分大于或者等于所述第二評分閾值,確定所述模板框架為符合所述框架信息的模板框架。
優選的,所述利用第一評分規則,確定每一所述模板框架的第一評分,包括:
利用預設多項評分指標,對每一所述模板框架進行評分,確定每一所述模板框架的第一評分,所述多項評分指標包括:文本對齊、區域留白、圖文元素重疊、圖文元素布局、文本超出邊界、文本尺寸和圖形尺寸中的至少兩種。
優選的,所述基于所述調整策略調整所述模板框架的框架參數,包括:
利用多項預設的調整規則,調整所述模板框架的框架參數,所述多項預設的調整規則包括:文本對齊調整、去重疊調整、平衡調整、圖文元素大小調整、去留白調整和文本間距調整中的至少兩種;
或者,
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