[發(fā)明專利]漸變折射率膜系有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911070596.1 | 申請(qǐng)日： | 2019-11-05 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN111060993B | 公開（公告）日： | 2021-05-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 胡超權(quán);張成超;田宏偉;鄭偉濤 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 吉林大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | G02B1/00 | 分類號(hào)： | G02B1/00 |
| 代理公司： | 北京和聯(lián)順知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11621 | 代理人： | 徐冬冬 |
| 地址： | 130000 吉*** | 國(guó)省代碼： | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 漸變 折射率 | ||
1.一種漸變折射率膜系，其特征在于：通過選擇適當(dāng)介質(zhì)、PCM設(shè)計(jì)多層漸變折射率PCM膜系，其通式為介質(zhì)層1/介質(zhì)層2/…/PCM-1/PCM-2/PCM-3/…/襯底，所述PCM-1/PCM-2/PCM-3/…的折射率均不同，且PCM-1/PCM-2/PCM-3/…的折射率由小到大形成漸變狀態(tài)，獲取最優(yōu)化膜系參數(shù)n、k和d，所述n、k和d分別代表各層材料的折射率、消光系數(shù)和膜厚。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種漸變折射率膜系，其特征在于：所述襯底選用單晶Si；所述介質(zhì)層1選用Al2O3材料，其厚度為800nm；所述介質(zhì)層2選用ZnS材料，其厚度為600nm；所述PCM-1選用氮摻雜Ge2Sb2Te5材料，其厚度為12nm；所述PCM-2選用Ge2Sb2Te5材料，其厚度為20nm；所述PCM-3選用Ge1Sb2Te4材料，其厚度為40nm；所述PCM-4選用Ge2Sb2Te4材料，其厚度為40nm；所述PCM-5選用GeTe材料，其厚度為500nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種漸變折射率膜系，其特征在于：所述襯底選用單晶Si；所述介質(zhì)層1選用Al2O3材料，其厚度為760nm；所述介質(zhì)層2選用ZnS材料，其厚度為600nm；所述PCM-1選用氮摻雜Ge2Sb2Te5材料，其厚度為12nm；所述PCM-2選用Ge2Sb2Te5材料，其厚度為20nm；所述PCM-3選用Ge1Sb2Te4材料，其厚度為40nm；所述PCM-4選用Ge2Sb2Te4材料，其厚度為40nm；所述PCM-5選用GeTe材料，其厚度為800nm。
4.一種漸變折射率膜系，其特征在于：通過選擇適當(dāng)介質(zhì)、PCM設(shè)計(jì)多層漸變折射率PCM膜系，其通式為介質(zhì)層1/介質(zhì)層2/…/PCM-1/PCM-2/PCM-3/…/金屬反射鏡/襯底，所述PCM-1/PCM-2/PCM-3/…的折射率均不同，且PCM-1/PCM-2/PCM-3/…的折射率由小到大形成漸變狀態(tài)，獲取最優(yōu)化膜系參數(shù)n、k和d，所述n、k和d分別代表各層材料的折射率、消光系數(shù)和膜厚。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種漸變折射率膜系，其特征在于：所述襯底選用單晶Si；所述介質(zhì)層1選用MgF2材料，其厚度為550nm；介質(zhì)層2選用Al2O3材料，其厚度為400nm；所述介質(zhì)層3選用ZnS材料，其厚度為700nm；所述PCM-1選用氮摻雜Ge2Sb2Te5材料，其厚度為12nm；所述PCM-2選用Ge2Sb2Te5材料，其厚度為20nm；所述PCM-3選用Ge1Sb2Te4材料，其厚度為100nm；所述PCM-4選用Ge2Sb2Te4材料，其厚度為80nm；所述PCM-5選用GeTe材料，其厚度為750nm；所述金屬反射鏡選用Au材料，其厚度為120nm。
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