[發明專利]圖案描繪裝置有效
| 申請號: | 201911069205.4 | 申請日: | 2016-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN110794651B | 公開(公告)日: | 2021-07-09 |
| 發明(設計)人: | 鈴木智也;奈良圭;加藤正紀;渡辺智行;鬼頭義昭;堀正和;林田洋祐;小宮山弘樹 | 申請(專利權)人: | 株式會社尼康 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 薛平;谷敬麗 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖案 描繪 裝置 | ||
一種基板處理裝置,具備:旋轉圓筒DR,以既定速度往與基板P寬度方向交叉的搬送方向搬送;描繪裝置11,具有多個描繪模塊UW1~UW5,將投射于基板P的描繪光束沿著基板P的描繪線掃描以將既定圖案描繪于基板P上,以通過多個描繪模塊UW1~UW5的各個而描繪于基板P上的圖案彼此在寬度方向相接合的方式,將彼此在寬度方向相鄰的描繪線于搬送方向配置成相隔既定間隔;調整機構24,調整描繪線相對于基板P寬度方向的傾斜;以及旋轉位置檢測機構,檢測出基板P的搬送速度;根據以旋轉位置檢測機構檢測出的搬送速度,通過旋轉機構24調整描繪線的相對傾斜。
本發明是申請日為2016年02月26日、申請號為201680006570.9、發明名稱為“基板處理裝置、元件制造系統及元件制造方法”的分案申請。
技術領域
本發明關于圖案描繪裝置。
背景技術
以往,作為基板處理裝置,已知有一種對片狀媒體(基板)上的既定位置進行描繪的掃描式描繪裝置(參照例如文獻1)。掃描式描繪裝置具備描繪臺、激光光源、光調變器、以及掃描光學系。描繪臺在載置有媒體的狀態搬送于搬送方向(副掃描方向)。激光光源往光調變器照射激光。光調變器例如使用聲光調變元件(AOM:Acousto Optic Modulator),將從激光源照射的激光予以調變。光調變器,在被切換成ON后,通過繞射使激光偏向,將激光投射于媒體上。另一方面,光調變器,在被切換成OFF后,不使激光偏向而成為不將激光投射于媒體上的狀態。掃描光學系,將從光調變器射出的激光從媒體上的掃描開始端至掃描結束端為止沿著既定掃描線掃描于掃描方向。接著,掃描式描繪裝置,一邊通過描繪臺使媒體搬送于副掃描方向、一邊以光調變器調變激光,通過使以掃描光學系調變后的激光的點光掃描于掃描方向,以對媒體進行描繪。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2000-227661號公報
發明內容
發明解決的技術問題
此外,作為描繪對象的基板,會伴隨元件大型化而變大。若基板變大,描繪于基板的圖案亦變大。此處,專利文獻1的掃描式描繪裝置,由于系以一條掃描線進行描繪,因此在描繪于基板的圖案變大的情形時,激光的點光所形成的掃描線變長。然而,專利文獻1的掃描式描繪裝置,由于掃描線長度有其極限,因此描繪于基板的圖案的大小受到掃描線長度限制。
因此,可考量以多條掃描線(描繪線)將圖案描繪于基板的所謂多光束型的描繪方式。此種多光束型描繪方式,將多條描繪線于掃描線的方向排列配置,通過將以各掃描線形成的各個圖案在與基板的搬送方向正交的寬度方向相接合,而能對基板描繪較大圖案。
即使多光束型描繪方式,由于亦一邊將基板搬送于搬送方向、一邊以多條描繪線將圖案描繪于基板,因此從各描繪線的描繪開始位置描繪至描繪結束位置的圖案,于基板的搬送速度產生速度不均等的情形時,描繪開始位置與描繪結束位置會在搬送方向以微米等級的差異位于不同位置。因此,可能產生在基板寬度方向相鄰的圖案彼此的相接合精度惡化的現象、亦即產生接合誤差。
本發明的實施態樣,有鑒于上述問題點,即使連結有多條描繪線的多光束型的描繪方式,亦可良好地減低在基板寬度方向相接合的圖案彼此的接合誤差。
解決問題采用的技術手段
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社尼康,未經株式會社尼康許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201911069205.4/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





