[發(fā)明專利]一種硫空位缺陷制備硫化物半導(dǎo)體/金屬納米粒子的方法及其應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911064878.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-11-04 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112756000B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-06-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李盼;王軍梅;楊尚坤;劉應(yīng)敏;王立晶;瞿鵬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 商丘師范學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | B01J27/04 | 分類號(hào): | B01J27/04;B01J23/50;B01J23/52;B01J35/08;C01B3/04 |
| 代理公司: | 鄭州中原專利事務(wù)所有限公司 41109 | 代理人: | 張春 |
| 地址: | 476000 河*** | 國(guó)省代碼: | 河南;41 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 空位 缺陷 制備 硫化物 半導(dǎo)體 金屬 納米 粒子 方法 及其 應(yīng)用 | ||
1.一種硫空位缺陷制備硫化物半導(dǎo)體/金屬納米粒子的方法,其特征在于:包括以下步驟:
(1)制備具有硫空位缺陷的硫化物半導(dǎo)體納米催化劑的懸濁液體;
(2)制備金屬離子前驅(qū)體溶液;
(3)將具有硫空位缺陷的硫化物半導(dǎo)體的懸濁液體與金屬離子前驅(qū)體溶液混合;
利用硫化物半導(dǎo)體表面富含的缺陷能夠直接還原金屬離子的原理,在硫化物半導(dǎo)體表面上直接生長(zhǎng)金屬納米粒子,所述方法中不添加還原劑;
所述將具有硫空位缺陷的硫化物半導(dǎo)體的懸濁液體與金屬離子前驅(qū)溶液混合,是指向具有硫空位缺陷的硫化物半導(dǎo)體的懸濁液體中加入金屬離子前驅(qū)體溶液,并攪拌;所述攪拌為在黑暗中攪拌2-8?h;
所述具有硫空位缺陷的硫化物半導(dǎo)體為ZnIn2S4和In2S3之一;
所述金屬離子前驅(qū)體溶液為HAuCl4或AgNO3前驅(qū)體溶液;
所述具有硫空位缺陷的硫化物半導(dǎo)體ZnIn2S4由下述方法制得:以ZnCl2為鋅源、InCl3為銦源、硫代乙酰胺為硫源及乙二醇和水的混合溶液為反應(yīng)介質(zhì),通過(guò)溶劑熱的方法制備ZnIn2S4納米催化劑:ZnCl2?4H2O、InCl3?4H2O?和硫代乙酰胺溶解于乙二醇和水的混合溶液中,所述ZnCl2?4H2O、InCl3?4H2O?和硫代乙酰胺的摩爾比為1:2:4,所述乙二醇和水的體積比=1:5,持續(xù)攪拌60分鐘,然后,轉(zhuǎn)移至反應(yīng)釜中,在150?°C下保溫12?h,等反應(yīng)釜自然降溫至室溫,離心洗滌所得的沉淀,并放于65?°C真空干燥箱中干燥;
所述具有硫空位缺陷的硫化物半導(dǎo)體In2S3由下述方法制得:以InCl3為銦源,硫代乙酰胺為硫源及乙二醇和水的混合溶液為反應(yīng)介質(zhì),通過(guò)溶劑熱的方法制備In2S3納米催化劑:InCl3?4H2O?和硫代乙酰胺溶解于乙二醇和水的混合溶液中,所述InCl3?4H2O?和硫代乙酰胺的摩爾比為1:2,所述乙二醇和水的體積比=1:5,持續(xù)攪拌60分鐘,然后,轉(zhuǎn)移至反應(yīng)釜中,在150?°C下保溫12?h,等反應(yīng)釜自然降溫至室溫,離心洗滌所得的沉淀,并放于65?°C真空干燥箱中干燥。
2.如權(quán)利要求1所述的硫空位缺陷制備硫化物半導(dǎo)體/金屬納米粒子的方法,其特征在于:所述HAuCl4前驅(qū)體溶液為400?μL?1g/mL?HAuCl4溶液。
3.一種硫空位缺陷制備的硫化物半導(dǎo)體/金屬納米粒子的應(yīng)用,其特征在于:采用所述權(quán)利要求1至2任一項(xiàng)所述方法制得的硫化物半導(dǎo)體/金屬納米粒子用于光降解、光解水、光催化還原二氧化碳領(lǐng)域。
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