[發明專利]介質透鏡、透鏡天線和電子設備有效
| 申請號: | 201911058327.3 | 申請日: | 2019-11-01 |
| 公開(公告)號: | CN110854541B | 公開(公告)日: | 2021-03-30 |
| 發明(設計)人: | 楊帆 | 申請(專利權)人: | OPPO廣東移動通信有限公司 |
| 主分類號: | H01Q15/08 | 分類號: | H01Q15/08;H01Q19/06;H01Q21/08;H01Q3/24;H01Q21/00;H01Q1/24;H01Q1/22 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 熊文杰 |
| 地址: | 523860 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 介質 透鏡 透鏡天線 電子設備 | ||
1.一種介質透鏡,其特征在于,包括:
透鏡層,包括相背設置的第一側面和第二側面,且所述第一側面包括朝背離所述第二側面的一側凸起的第一曲面;
校準層,包括一體成型的連接部和校準部,所述連接部與所述第二側面貼合設置,所述校準部朝向所述透鏡層的一側包括第二曲面,所述第二曲面包括至少一個朝所述透鏡層一側的凸面,所述校準層用于對所述透鏡層提供的相位分布進行補償;所述第二曲面還包括至少兩個凹面,所述凸面和所述凹面依次交替平滑連接,且所述凸面位于兩個所述凹面之間,其中,所述凸面朝所述透鏡層一側凸起,所述凹面朝所述透鏡層一側凹陷。
2.根據權利要求1所述的介質透鏡,其特征在于,所述凸面的數量為多個,且多個所述凸面在所述第二曲面的延伸方向上的長度尺寸具有漸變規律。
3.根據權利要求2所述的介質透鏡,其特征在于,多個所述凸面的所述長度尺寸在延伸方向上由所述第二曲面的中心位置向兩側對稱減小。
4.根據權利要求1所述的介質透鏡,其特征在于,所述凸面與所述第二側面接觸設置。
5.據權利要求1所述的介質透鏡,其特征在于,所述第二側面為平面、雙曲面、拋物面或橢圓面,所述第一側面為雙曲面、拋物面或橢圓面。
6.根據權利要求1所述的介質透鏡,其特征在于,還包括設置在所述透鏡層與所述校準層之間的介質層,所述介質層的介電常數均小于所述校準層、透鏡層的介電常數。
7.根據權利要求1~6任一項所述的介質透鏡,其特征在于,所述校準層遠離所述透鏡層的一側為平面。
8.一種透鏡天線,其特征在于,包括:
饋源陣列,包括多個陣列設置的饋源單元;及
與所述饋源陣列間隔設置的至少一個如權利要求1-7任一項所述介質透鏡。
9.根據權利要求8所述的透鏡天線,其特征在于,所述介質透鏡為一個,且所述饋源陣列的陣列中心與所述介質透鏡的焦點均位于同一軸線上。
10.根據權利要求8所述的透鏡天線,其特征在于,所述介質透鏡為至少為三個且呈線性陣列,所述饋源單元與所述介質透鏡一一對應設置;其中,至少一個所述饋源單元的相位中心與所述介質透鏡的焦點位于同一中軸線上,至少兩個所述饋源單元的相位中心與所述介質透鏡的焦點所在中軸線具有相位偏移。
11.根據權利要求10所述的透鏡天線,其特征在于,所述相位偏移的偏移量由所述線性陣列的陣列中線向陣列兩側對稱減小。
12.根據權利要求8所述的透鏡天線,其特征在于,還包括:
第一導電板;
第二導電板,與所述第一導電板平行設置;
其中,所述介質透鏡和所述饋源陣列分別設置在所述第一導電板和所述第二導電板之間。
13.一種電子設備,其特征在于,包括如權利要求8-12所述的透鏡天線。
14.根據權利要求13所述的電子設備,其特征在于,所述電子設備還包括:
檢測模塊,用于獲取每個所述饋源單元處于工作狀態時所述透鏡天線的波束信號強度;
開關模塊,與所述饋源陣列連接,用于選擇導通與任一所述饋源單元的連接通路;
控制模塊,分別與所述檢測模塊、所述開關模塊連接,用于根據所述波束信號強度控制所述開關模塊,使最強波束信號強度對應的所述饋源單元處于工作狀態。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于OPPO廣東移動通信有限公司,未經OPPO廣東移動通信有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201911058327.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





