[發(fā)明專利]鍍膜治具、漸變色鍍膜方法、裝飾蓋板及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911054779.4
• 申請(qǐng)日: 2019-10-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110923631B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-12-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉保磊;王曉磊;付強(qiáng);曹歡笑
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 維達(dá)力實(shí)業(yè)（赤壁）有限公司;萬(wàn)津科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/24
• 分類號(hào): C23C14/24;C23C14/04;C23C14/08;C23C14/10
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 王南杰

1.一種鍍膜治具，其特征在于，包括第一夾具和第二夾具；

所述第一夾具包括第一成型模具、第一固定件，所述第一成型模具呈曲面狀，所述第一成型模具的外曲面形成第一鍍膜面，所述第一固定件用于將所述第一成型模具固定在鍍膜傘具上且所述第一鍍膜面朝外；

所述第二夾具包括第二成型模具、第二固定件，所述第二成型模具呈曲面狀，所述第二成型模具的內(nèi)曲面形成第二鍍膜面，所述第二固定件用于將所述第二成型模具固定在鍍膜傘具上且所述第二鍍膜面朝外。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜治具，其特征在于，所述第一成型模具還包括固定翼，所述第一成型模具邊緣上的相對(duì)的兩個(gè)位置分別連接有所述固定翼，所述第一固定件與所述固定翼配合以固定所述第一成型模具。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜治具，其特征在于，所述第二固定件用于從所述第一成型模具的中部將其固定于鍍膜傘具。

4.一種真空鍍膜裝置，其特征在于，包括蒸發(fā)鍍膜機(jī)以及權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的鍍膜治具，所述鍍膜治具的第一夾具的第一成型模具通過(guò)第一固定件固定在所述蒸發(fā)鍍膜機(jī)的鍍膜傘具上且所述第一鍍膜面朝外；所述鍍膜治具的第二夾具的第二成型模具通過(guò)第二固定件固定在所述蒸發(fā)鍍膜機(jī)的鍍膜傘具上且所述第二鍍膜面朝外。

5.一種漸變色鍍膜方法，其特征在于，包括如下步驟：

(1)、將待鍍膜的板材貼緊權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的第一夾具的第一鍍膜面或者第二夾具的第二鍍膜面上，進(jìn)入真空鍍膜裝置進(jìn)行真空蒸發(fā)鍍膜；

(2)、選擇高折射率材料對(duì)所述板材進(jìn)行鍍膜，形成第一層鍍膜；

(3)、選擇低折射率材料對(duì)所述板材進(jìn)行鍍膜，形成第二層鍍膜；

(4)、至少按照順序重復(fù)一次步驟(2)形成第三層鍍膜、重復(fù)步驟(3)形成第四層鍍膜；

(5)、重復(fù)步驟(2)，形成第五層鍍膜；

(6)、對(duì)步驟(5)得到的所述板材進(jìn)行油墨印刷、烘烤，得到漸變色鍍膜板材。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的漸變色鍍膜方法，其特征在于，步驟(2)中所述高折射率材料為T(mén)a₂O₅、Ti₃O₅、Nb₂O₅中的一種或幾種。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的漸變色鍍膜方法，其特征在于，步驟(2)中選擇高折射率材料對(duì)所述板材進(jìn)行鍍膜具體包括如下步驟：高真空狀態(tài)下通過(guò)電子束加熱所述高折射率材料至2200℃-2500℃使所述高折射率材料形成原子態(tài)氣氛，并以的速度在所述板材表面形成膜層，第一鍍膜面或者第二鍍膜面使得膜層的厚度漸變形成高度差。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的漸變色鍍膜方法，其特征在于，步驟(3)中所述低折射率材料為SiO₂、Al₂O₃中的一種或兩種。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的漸變色鍍膜方法，其特征在于，步驟(3)中選擇低折射率材料對(duì)所述板材進(jìn)行鍍膜具體包括如下步驟：高真空狀態(tài)下通過(guò)電子束加熱所述低折射率材料至1600℃-2200℃使所述低折射率材料形成原子態(tài)氣氛，并以的速度在所述板材表面形成膜層，第一鍍膜面或者第二鍍膜面使得膜層的厚度漸變形成高度差。

10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的漸變色鍍膜方法，其特征在于，所述油墨印刷包括絲印、噴涂或者移印。

11.根據(jù)權(quán)利要求5所述的漸變色鍍膜方法，其特征在于，所述第一層鍍膜的厚度為60nm-70nm，所述第二層鍍膜的厚度為50nm-60nm，所述第三層鍍膜的厚度為35nm-45nm，所述第四層鍍膜的厚度為100nm-110nm，所述第五層鍍膜的厚度為10nm-20nm。