[發明專利]展青霉素磁性分子印跡聚合物及其制備方法與應用

有效

• 申請號: 201911050478.4
• 申請日: 2019-10-31
• 公開（公告）號: CN110790933B
• 公開（公告）日: 2022-03-25
• 發明（設計）人: 陳貴堂;付含;王海翔;廖聲華;徐武
• 申請（專利權）人: 中國藥科大學
• 主分類號: C08G77/26
• 分類號: C08G77/26;C08G83/00;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/28
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204
• 代理人: 楊曉莉

本發明公開了一種展青霉素磁性分子印跡聚合物的制備方法，首先通過水熱法制備大粒徑四氧化三鐵納米粒子，然后制備Fe₃O₄@SiO₂微球，Fe₃O₄@SiO₂微球乙烯基化后聚合制得展青霉素磁性分子印跡聚合物。本申請制備所得展青霉素磁性分子印跡聚合物吸附速率顯著提升，60分鐘便能達到吸附平衡，并且在多次再生后仍可保持穩定及重復使用的性能，特異性強，制備時間短。本申請制備所得展青霉素磁性分子印跡聚合物更加有利于用于展青霉素的快速檢測樣品前處理。

技術領域

本發明屬于檢測技術，特別是涉及一種展青霉素磁性分子印跡聚合物及其制備方法與應用。

背景技術

展青霉素(Patulin,PAT)是一種對動物體神經系統、組織及細胞有很強毒性的真菌次級代謝產物，具有潛在致癌、致畸、致突變性，已被國際癌癥研究機構(IARC)歸類為3類致癌物。PAT廣泛存在于蘋果、山楂、李子、香蕉、菠蘿、辣椒、葡萄、胡蘿卜等果蔬及制品中，主要污染對象為蘋果、蘋果汁及相關產品。為了控制PAT的危害，許多國家和機構已制定了嚴格的限量標準。專利CN110156941A使用共聚法制備Fe₃O₄作為材料，4-乙烯基吡啶作為聚合物，三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯或者二甲基丙烯酸乙二醇酯作為交聯劑制備的分子印跡聚合物。此方法所制備的納米粒子粒徑約為50-80nm，聚合時間48h，印跡材料粒徑較小表面印跡效果較差，會導致所需要的吸附劑結合時間較長，特異性結合能力較差，且聚合時間較長耗費人力物力。學位論文展青霉素分子印跡聚合物的制備及應用研究，其中采用活化硅球為載體，3-氨丙基三乙氧基硅烷為聚合物，四乙氧基硅烷為交聯劑聚合時間為12h。采用活化硅球作為印跡材料，使得在復雜樣品中不能有效地將聚合物與實際樣品快速的分離開，且活化硅球本身具備一定的吸附能力使得在吸附發生的過程中會導致非特異性吸附過程的發生不能有效地萃取目標物質。展青霉素分子印跡固相萃取技術CN 110068625 A，采用共聚法以4-乙烯基吡啶作為聚合物三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯作為交聯劑聚合48小時制備分子印跡聚合物，結合LC-MS對展青霉素進行檢測。采用共聚法制備的印跡聚合物大量的結合位點不在聚合物表面有吸附能力差印跡聚合物與實際樣品難以分離等問題，且結合LC-MS作檢測檢測成本高。本研究用表面印跡法制備磁性展青霉素的分子印跡聚合物，考察此聚合物對展青霉素的吸附性能及選擇性能，并利用此技術對蘋果汁中的展青霉素進行特異性吸附，制備出高回收率、高精密度的特異性吸附材料。

發明內容

發明目的：針對上述現有技術，本申請提供了一種展青霉素磁性分子印跡聚合物及其制備方法與應用。

技術方案：本申請所述的一種展青霉素磁性分子印跡聚合物的制備方法，包括以下步驟：

(1)制備Fe₃O₄納米顆粒：

稱取FeCl₃·6H₂O和檸檬酸三鈉溶于乙二醇中，然后向上述溶液體系中加入乙酸鈉，攪拌均勻，置于水熱反應釜中180℃-220℃反應6-14h，冷卻至室溫，然后用乙醇和水洗滌、干燥，得到磁性Fe₃O₄納米粒子；

(2)Fe₃O₄@SiO₂微球的制備

稱取步驟(1)制備的磁性Fe₃O₄納米粒子置于0.1mol/L的鹽酸溶液中，超聲處理后均勻分散于乙醇和去離子水中，加入28％的濃氨水和正硅酸四乙酯，常溫機械攪拌反應，反應結束后外加磁場分離，去離子水和甲醇洗滌、干燥，得到Fe₃O₄@SiO₂微球；

(3)Fe₃O₄@SiO₂微球的乙烯基化