[發明專利]一種具雙自由層的磁性隨機存儲器存儲單元在審
| 申請號: | 201911048593.8 | 申請日: | 2019-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN112750945A | 公開(公告)日: | 2021-05-04 |
| 發明(設計)人: | 張云森;郭一民;陳峻;肖榮福 | 申請(專利權)人: | 上海磁宇信息科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L43/08 | 分類號: | H01L43/08;H01L43/10;H01L27/22;G11C11/16 |
| 代理公司: | 上海容慧專利代理事務所(普通合伙) 31287 | 代理人: | 于曉菁 |
| 地址: | 201815 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 自由 磁性 隨機 存儲器 存儲 單元 | ||
一種具雙自由層的磁性隨機存儲器存儲單元,存儲單元包括依次向上層疊設置的參考層、勢壘層、自由層、覆蓋層,所述自由層內部,按照第一自由層、雜質吸收層、第二自由層的依次向上疊加設置;其中,所述第一自由層和第二自由層的磁化矢量在透過雜質吸收層的RKKY耦合作用下呈現平行的狀態。雙自由層的磁性隧道結結構,能夠增加自旋轉移力矩效率和磁性隨機存儲器的熱穩定性,非常有利于磁性隨機存儲器磁學、電學和良率的提升,以及器件的進一步縮微化。
技術領域
本發明涉及具有垂直各向異性(Perpendicular Magnetic Anisotropy,PMA)的磁性隨機存儲器(MRAM,Magnetic Radom Access Memory),特別是關于一種雙自由層結構的磁性隧道結(Magnetic Tunnel Junction)單元結構。
背景技術
近年來,采用磁性隧道結(Magnetic Tunnel Junction,MTJ)的磁性隨機存儲器(Magnetic Radom Access Memory,MRAM)被人們認為是未來的固態非易失性記憶體,它具有高速讀寫、大容量以及低能耗的特點。鐵磁性MTJ通常為三明治結構,其中有磁性自由層(Free Layer,FL),磁性自由層(FL)可以改變磁化方向以記錄不同的數據;位于中間的絕緣隧道勢壘層(Tunnel Barrier Layer,TBL);磁性參考層(Reference Layer,RL)位于隧道勢壘層的另一側,它的磁化方向不變。
為能在這種磁電阻組件中記錄信息,建議使用基于自旋動量轉移或稱自旋轉移矩(STT,Spin Transfer Torque)轉換技術的寫方法,這樣的MRAM稱為STT-MRAM。根據磁極化方向的不同,STT-MRAM又分為面內STT-MRAM和垂直STT-MRAM(即pSTT- MRAM),后者有更好的性能。在具有垂直各向異性(Perpendicular Magnetic Anisotropy, PMA)的磁性隧道結(MTJ)中,作為存儲信息的自由層,在垂直方向擁有兩個磁化方向,即:向上和向下,分別對應二進制中的“0”和“1”或“1”和“0”。在實際應用中,在讀取信息或者空置的時候,自由層的磁化方向保持不變;在寫的過程中,如果有與現有不同狀態的信號輸入的時候,那么自由層的磁化方向將會在垂直方向上發生一百八十度的翻轉。業界把這種空置狀態之下,磁性存儲器的自由層保持磁化方向不變得能力叫做數據保存能力(Data Retention)或熱穩定性因子(Thermal Stability Factor),在不同的應用場景中要求不一樣,對于一個典型的非易失存儲器(Non-volatile Memory,NVM),比如:應用于汽車電子領取,其熱穩定性要求是在125℃甚至150℃的條件可以保存數據至少10年。
更進一步地,數據保存能力(Data Retention)可以用下面的公式進行計算:
其中,τ為在熱擾動條件下磁化矢量不變的時間,τ0為嘗試時間(一般為1ns),E為自由層的能量壁壘,kB為玻爾茲曼常數,T為工作溫度。
熱穩定性因子(Thermal Stability Factor)則可以表示為如下的公式:
其中,Keff為自由層的有效各向能量密度,V為自由層的體積,KV為體各向異性常數Ms為自由層飽和磁化率,Nz垂直方向的退磁化常數,t為自由層的厚度,Ki為界面各向異性常數,DMTJ為磁性隨機存儲器的關鍵尺寸(一般指自由層的直徑),As為剛度積分交換常數,Dn為自由層翻轉過程中反向核的尺寸(一般指反向核的直徑)。實驗表明當自由層的厚度較厚時表現為面內各向異性,較薄時,表現為垂直各向異性,KV一般可以忽略不計,而退磁能對垂直各向異性的貢獻為負值,因此垂直各向異性完全來自界面效應(Ki)。
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