[發明專利]一種超高附著力復合板材顏色膜及其鍍膜工藝

在審

• 申請號: 201911044409.2
• 申請日: 2019-10-30
• 公開（公告）號: CN111218648A
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發明（設計）人: 李智超;畢文江;朱金波;孫波;曹志嫦;趙振輝
• 申請（專利權）人: 河南鍍邦光電股份有限公司
• 主分類號: C23C14/20
• 分類號: C23C14/20;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/35;C23C14/24
• 代理公司: 北京名華博信知識產權代理有限公司 11453
• 代理人: 王帆

1.一種超高附著力復合板材顏色膜，包括位于復合板材背面依次鍍制的過渡層及交替分布的介質膜膜層，其特征在于，所述過渡層可以是Si、Cr、In當中的任意一種材料構成，所述介質膜膜層是由高折射率層和低折射率層構成的薄膜，且高折射率層與低折射率層交替分布，其中低折射率層在下，高折射率層在上，所述高折射率層是H₄、SI₃N₄、TI₃O₅、NB₂O₅中的任意一種構成的材料，所述低折射率層是SiO₂或者AL₂O₃中的一種材料構成，還包括油墨，所述油墨絲印一層或幾層在介質膜膜層表面。

2.根據權利要求1所述的一種超高附著力復合板材顏色膜，其特征在于，所述介質膜膜層為2層以上，最多可達20層。

3.根據權利要求1所述的一種超高附著力復合板材顏色膜，其特征在于，所述過渡層材料膜層厚度為0-5nm，其鍍膜方式包括熱蒸發和濺射鍍膜。

4.根據權利要求1所述的一種超高附著力復合板材顏色膜，其特征在于，所述高折射率層材料的膜層厚度為10-1000nm，低折射率層材料的膜層厚度為10-1000nm。

5.根據權利要求1所述的一種超高附著力復合板材顏色膜的鍍膜工藝，包括以下步驟：

步驟1：將PMMA或PC及其表面硬化處理或涂層處理后的復合板材表面保護膜去除后，使用打底膠帶包好不銹鋼基板作為工件，將復合板材粘在工件上兩者結合牢固；

步驟2：用夾具裝夾好工件送入真空環境中，鍍膜前運用RF源放電對復合板材基片表面微觀油污和灰塵進一步行清潔，以提高膜層附著力；

步驟3：將過渡層材料靶材硅靶、鉻靶或銦靶的任意一種在工作氣體的環境中進行磁控濺射，在復合板材襯底上沉積得到過渡層材料膜層，所述工作氣體為氬氣；

步驟4：將高折射率層材料靶材和低折射率層材料靶材在工作氣體與反應氣體的環境中進行磁控濺射，在復合板材襯底上依次沉積得到高折射率層氧化物薄膜和低折射率層氧化物薄膜，所述高折射率層與低折射率層交替分布，所述工作氣體為氬氣，反應氣體為氧氣；

步驟5：鍍完后復合板材覆膜進入絲印工序，絲印一道或幾道油墨后就得到本專利所述超高附著力復合板材顏色膜，經激光切割成客戶要求大小就可以出貨。

6.根據權利要求5所述的一種超高附著力復合板材顏色膜的鍍膜工藝，其特征在于，所述步驟3中，氬氣流量為250-350SCCM，磁控濺射的氣壓為1.0-6.0*10^-4Pa，磁控濺射的功率為5-15kw，磁控濺射的氧化功率為0kw。

7.根據權利要求5所述的一種超高附著力復合板材顏色膜的鍍膜工藝，其特征在于，所述步驟4中，所述氬氣：氧氣體積比=（1~3）：（2~4）。

8.根據權利要求5所述的一種超高附著力復合板材顏色膜的鍍膜工藝，其特征在于，所述步驟4中，優選的氬氣流量為250-350SCCM，氧氣流量150-450SCCM，優選的磁控濺射的氣壓為1.0-2.0*10^-3Pa，優選的磁控濺射的功率為7-15kw，優選的磁控濺射的氧化功率為0-3.5kw。

9.根據權利要求5所述的一種超高附著力復合板材顏色膜的鍍膜工藝，其特征在于，所述過渡層材料靶材、高折射率層材料靶材及低折射率層材料靶材純度為99.999%，靶材到復合板材基板的距離可以為2-5cm，且反應氣體純度99.99%。