[發明專利]變色玻璃

在審

• 申請號: 201911044158.8
• 申請日: 2019-10-30
• 公開（公告）號: CN112817190A
• 公開（公告）日: 2021-05-18
• 發明（設計）人: 呂敬書;廖敏行;許希文
• 申請（專利權）人: 傳奇視界有限公司
• 主分類號: G02F1/153
• 分類號: G02F1/153;G02F1/15
• 代理公司: 深圳精智聯合知識產權代理有限公司 44393
• 代理人: 李慧

本發明實施例公開的一種變色玻璃制備方法，例如包括：提供基材玻璃層；在所述基材玻璃層上鍍制第一透明導電層；在所述第一透明導電層上鍍制主變色層；在所述主變色層上鍍制輔助變色層；在所述輔助變色層上鍍制離子導體層上；在所述離子導體層上鍍制第二透明導電層；以及在所述第二透明導電層上鍍制頂層保護層。本發明實施例提供的變色玻璃制備方法可以提升變色玻璃在大面積產品器件的變色均勻性。

技術領域

本發明涉及一種玻璃技術領域，尤其是一種變色玻璃。

背景技術

目前產業化過程中，變色玻璃例如變色玻璃在大面積產品器件的變色均勻性及變色周期循環壽命上還存在很多缺陷，無機變色材料主要為WO₃材料。WO₃材料是一種眾所周知的高效的陰極變色材料，通過化學的氧化與還原反應，控制WO₃中W的價態變化，可以實現對光譜的吸收調控作用。但由于其存在大面積變色不均勻，周期循環壽命短等，循環到一定次數后，電極附近變色功能衰減嚴重甚至不變色，大大影響了其在工程中的應用。

發明內容

針對上述問題，本發明實施例提供了一種變色玻璃，以提升變色玻璃在大面積產品器件的變色均勻性。

具體地，本發明實施例提供一種變色玻璃制備方法，包括：提供基材玻璃層；以FTO、ITO、IGZO、AZO、GZO、Ag中的一種或至少兩種的組合為靶材材料，在真空濺射氣壓為1.0E^-3～9.0E^-3mbar條件下沉積第一透明導電層至所述基材玻璃層上；以W、Mo、Nb、Ti、Ta中至少兩種組合的氧化物為靶材材料沉積主變色層至所述第一透明導電層上；以Ni、V、Co、Ir、Fe、Mn中至少兩種組合的氧化物為靶材材料沉積輔助變色層至所述主變色層上；以H、Li、Na、K、Mg元素的一種或者至少兩種的組合為靶材材料沉積離子導體層至所述輔助變色層上；以FTO、ITO、IGZO、AZO、GZO、Ag中的一種或至少兩種的組合為靶材材料沉積第二透明導電層至所述離子導體層上；以及以Si、Ti、Zn、Sn、Nb、Ta之一的氧化物或氮化物或氮氧化物為靶材材料沉積外層保護層至所述第二透明導電層上。

另一方面，本發明實施例提供的一種變色玻璃制備方法，包括：提供基材玻璃層；在所述基材玻璃層上鍍制第一透明導電層；在所述第一透明導電層上鍍制主變色層；在所述主變色層上鍍制輔助變色層；在所述輔助變色層上鍍制離子導體層；在所述離子導體層上鍍制第二透明導電層；以及在所述第二透明導電層上鍍制頂層保護層。

在本發明的一個實施例中，所述在所述基材玻璃層上鍍制第一透明導電層包括：將所述基材玻璃層升溫至預設溫度；以及以FTO、ITO、IGZO、AZO、GZO、Ag中的一種或至少兩種的組合為靶材材料，在第一預設真空濺射氣壓下沉積所述第一透明導電層至所述基材玻璃層上。

在本發明的一個實施例中，所述預設溫度的范圍為280-300℃；所述第一預設真空濺射氣壓為1.0E-3～9.0E-3mbar。

在本發明的一個實施例中，所述在所述第一透明導電層上鍍制主變色層具體為：以W、Mo、Nb、Ti、Ta中至少兩種組合的氧化物為靶材材料，在第二預設真空濺射氣壓下沉積所述主變色層至所述第一透明導電層上。

在本發明的一個實施例中，所述在所述主變色層上鍍制輔助變色層具體為：以Ni、V、Co、Ir、Fe、Mn中至少兩種組合的氧化物為靶材材料，在第三預設真空濺射氣壓條件下沉積所述輔助變色層至所述主變色層上。

在本發明的一個實施例中，所述在所述輔助變色層上鍍制離子導體層具體為：以H、Li、Na、K、Mg元素的一種或者至少兩種的組合為靶材材料，在第四預設真空濺射氣壓條件下沉積所述離子導體層至所述輔助變色層上。

在本發明的一個實施例中，所述在所述離子導體層上鍍制第二透明導電層具體為：以FTO、ITO、IGZO、AZO、GZO、Ag中的一種或至少兩種的組合為靶材材料，在第五預設真空濺射氣壓下沉積所述第二透明導電層至所述離子導體層上。