[發(fā)明專利]一種標(biāo)定單炮記錄層位的方法及裝置

在審

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• 申請日: 2019-10-30
• 公開（公告）號: CN112748461A
• 公開（公告）日: 2021-05-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳江力;李正佳;胡峰;吳增友;王中海;李源
• 申請（專利權(quán)）人: 中國石油天然氣集團(tuán)有限公司;中國石油集團(tuán)東方地球物理勘探有限責(zé)任公司
• 主分類號: G01V1/28
• 分類號: G01V1/28;G01V1/30;G01V1/37
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 趙平;周永君

1.一種標(biāo)定單炮記錄層位的方法，其特征在于，包括：

通過垂直地震剖面、聲波合成記錄和鉆井資料標(biāo)定水平疊加時(shí)間剖面的反射層層位；

將所述水平疊加時(shí)間剖面的地形線等比例標(biāo)記在單炮記錄上；

確定單炮記錄中的極小點(diǎn)在水平疊加時(shí)間剖面對應(yīng)的位置；

將水平疊加時(shí)間剖面的層位標(biāo)記到單炮記錄極小點(diǎn)反射層上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的標(biāo)定單炮記錄層位的方法，其特征在于，所述通過垂直地震剖面、聲波合成記錄和鉆井資料標(biāo)定水平疊加時(shí)間剖面的反射層層位，包括：

通過所述垂直地震剖面、所述聲波合成記錄和所述鉆井資料標(biāo)定偏移時(shí)間剖面的反射層層位；

根據(jù)所述偏移時(shí)間剖面的反射層層位確定所述水平疊加時(shí)間剖面的反射層層位。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的標(biāo)定單炮記錄層位的方法，其特征在于，所述將所述水平疊加時(shí)間剖面的地形線等比例標(biāo)記在單炮記錄上，包括：

將所述水平疊加時(shí)間剖面的地形線作為所述單炮記錄的零時(shí)線；

使所述水平疊加時(shí)間剖面的縱向比例尺與所述單炮記錄的縱向比例尺保持一致。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的標(biāo)定單炮記錄層位的方法，其特征在于，所述將水平疊加時(shí)間剖面的層位標(biāo)記到單炮記錄極小點(diǎn)反射層上，包括：

將所述水平疊加時(shí)間剖面上的極小點(diǎn)與所述單炮記錄中的極小點(diǎn)置于同一水平線上；

以所述水平疊加時(shí)間剖面上的極小點(diǎn)為中心，將所述水平疊加時(shí)間剖面上的層位一一映射到所述單炮記錄極小點(diǎn)反射層中。

5.一種標(biāo)定單炮記錄層位的裝置，其特征在于，包括：

水平疊加時(shí)間剖面標(biāo)定單元，用于通過垂直地震剖面、聲波合成記錄和鉆井資料標(biāo)定水平疊加時(shí)間剖面的反射層層位；

地形線標(biāo)記單元，用于將所述水平疊加時(shí)間剖面的地形線等比例標(biāo)記在單炮記錄上；

極小點(diǎn)定位單元，用于確定單炮記錄中的極小點(diǎn)在水平疊加時(shí)間剖面對應(yīng)的位置；

單炮記錄層位標(biāo)定單元，用于將水平疊加時(shí)間剖面的層位標(biāo)記到單炮記錄極小點(diǎn)反射層上。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的標(biāo)定單炮記錄層位的裝置，其特征在于，所述水平疊加時(shí)間剖面標(biāo)定單元，包括：

偏移時(shí)間剖面標(biāo)定模塊，用于通過所述垂直地震剖面、所述聲波合成記錄和所述鉆井資料標(biāo)定偏移時(shí)間剖面的反射層層位；

層位確定模塊，用于根據(jù)所述偏移時(shí)間剖面的反射層層位確定所述水平疊加時(shí)間剖面的反射層層位。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的標(biāo)定單炮記錄層位的裝置，其特征在于，所述地形線標(biāo)記單元，包括：

零時(shí)線設(shè)定模塊，用于將所述水平疊加時(shí)間剖面的地形線作為所述單炮記錄的零時(shí)線；

比例尺統(tǒng)一模塊，用于使所述水平疊加時(shí)間剖面的縱向比例尺與所述單炮記錄的縱向比例尺保持一致。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的標(biāo)定單炮記錄層位的裝置，其特征在于，所述單炮記錄層位標(biāo)定單元，包括：

極小點(diǎn)重合模塊，用于將所述水平疊加時(shí)間剖面上的極小點(diǎn)與所述單炮記錄中的極小點(diǎn)置于同一水平線上；

映射模塊，用于以所述水平疊加時(shí)間剖面上的極小點(diǎn)為中心，將所述水平疊加時(shí)間剖面上的層位一一映射到所述單炮記錄極小點(diǎn)反射層中。

9.一種電子設(shè)備，包括存儲(chǔ)器、處理器及存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器上并可在處理器上運(yùn)行的計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，所述處理器執(zhí)行所述程序時(shí)實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述標(biāo)定單炮記錄層位的方法。

10.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，該計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述標(biāo)定單炮記錄層位的方法。