[發明專利]定日鏡聚光校準方法、系統和存儲介質在審
| 申請號: | 201911038123.3 | 申請日: | 2019-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN110780684A | 公開(公告)日: | 2020-02-11 |
| 發明(設計)人: | 朱偉;李皓楨;辛博 | 申請(專利權)人: | 北京拉夫堡太陽能技術有限公司 |
| 主分類號: | G05D3/12 | 分類號: | G05D3/12;F24S23/70;F24S50/20 |
| 代理公司: | 11212 北京輕創知識產權代理有限公司 | 代理人: | 陳振玉 |
| 地址: | 100102 北京市朝陽區望京西*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 定日鏡 內聚光 聚光 預設 反射光斑 校準 能流 圖像采集設備 圖像 采集區域 存儲介質 定日鏡場 系統成本 發散角 太陽 | ||
1.定日鏡聚光校準方法,其特征在于,包括:
將定日鏡場劃分為多個區域,每個區域通過對應的圖像采集設備采集區域內的聚光定日鏡的反射光斑圖像;
根據所述反射光斑圖像、太陽的發散角、預設系數、預設能流密度閾值和預設單面定日鏡的能流系數,確定當前所述區域內聚光定日鏡的需求數量;
根據當前所述區域內聚光定日鏡的需求數量和當前所述區域內聚光定日鏡的實際數量,確定當前所述區域內聚光定日鏡的調整方案;
根據當前所述區域內聚光定日鏡的調整方案對當前所述區域內的聚光定日鏡進行調整。
2.根據權利要求1所述的定日鏡聚光校準方法,其特征在于,所述根據所述反射光斑圖像、太陽的發散角、預設系數、預設能流密度閾值和預設單面定日鏡的能流系數,確定當前所述區域內聚光定日鏡的需求數量,具體包括:
根據所述反射光斑圖像、所述太陽的發散角及所述預設系數,得到能流密度值;
根據所述能流密度值、所述預設能流密度閾值和所述預設單面定日鏡的能流系數,確定所述所述當前區域內的聚光定日鏡的需求數量。
3.根據權利要求2所述的定日鏡聚光校準方法,其特征在于,所述根據所述反射光斑圖像、所述太陽的發散角及所述預設系數,得到能流密度值,具體包括:
獲取所述反射光斑圖像中多個點的灰度值;
將每個點的灰度值、所述太陽的發散角δ和所述預設系數α代入公式:
得到所述能流密度值E,其中,Pi是第i個點的灰度值,i是大于零的正整數,n是選取的所述反射光斑圖像中的點的數量。
4.根據權利要求2所述的定日鏡聚光校準方法,其特征在于,所述根據所述能流密度值、所述預設能流密度閾值和所述預設單面定日鏡的能流系數,確定所述當前區域內的聚光定日鏡的需求數量,具體包括:
根據所述能流密度值和所述預設能流密度閾值的差值,得到能流密度差值;
根據所述能流密度差值和所述預設單面定日鏡的能流系數的比值,得到所述當前區域內的所述聚光定日鏡的需求數量。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的定日鏡聚光校準方法,其特征在于,所述根據當前所述區域內聚光定日鏡的需求數量和當前所述區域內聚光定日鏡的實際數量,確定當前所述區域內聚光定日鏡的調整方案,包括:
當所述需求數量小于所述實際數量時,則根據所述需求數量和所述實際數量確定應關閉聚光定日鏡的數量;
當所述需求數量大于所述實際數量時,則根據所述需求數量和所述實際數量確定應開啟聚光定日鏡的數量。
6.定日鏡聚光校準系統,其特征在于,包括:
采集單元,用于將定日鏡場劃分為多個區域,每個區域通過對應的圖像采集設備采集區域內的聚光定日鏡的反射光斑圖像;
處理單元,用于根據所述反射光斑圖像、太陽的發散角、預設系數、預設能流密度閾值和預設單面定日鏡的能流系數,確定當前所述區域內聚光定日鏡的需求數量;
根據當前所述區域內聚光定日鏡的需求數量和當前所述區域內聚光定日鏡的實際數量,確定當前所述區域內聚光定日鏡的調整方案;
驅動單元,用于根據當前所述區域內聚光定日鏡的調整方案對當前所述區域內的聚光定日鏡進行調整。
7.根據權利要求6所述的定日鏡聚光校準系統,其特征在于,
所述處理單元,具體用于根據所述反射光斑圖像、所述太陽的發散角及所述預設系數,得到能流密度值;
根據所述能流密度值、所述預設能流密度閾值和所述預設單面定日鏡的能流系數,確定所述當前區域內的聚光定日鏡的需求數量。
8.根據權利要求7所述的定日鏡聚光校準系統,其特征在于,包括:
所述處理單元,具體用于獲取所述反射光斑圖像中多個點的灰度值;
將每個點的灰度值、所述太陽的發散角δ和所述預設系數α代入公式:
得到所述能流密度值E,其中,Pi是第i個點的灰度值,i是大于零的正整數,n是選取的所述反射光斑圖像中的點的數量。
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