[發(fā)明專利]一種具有無光釉面的陶瓷磚及其制備方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201911037079.4
• 申請日: 2019-10-29
• 公開（公告）號: CN110627493A
• 公開（公告）日: 2019-12-31
• 發(fā)明（設計）人: 汪成東;饒平根;胡剛勇;孫本勇;王恒;閔祖鑫
• 申請（專利權(quán)）人: 廣東天弼陶瓷有限公司
• 主分類號: C04B35/14
• 分類號: C04B35/14;C04B35/622;C04B41/86;C03C8/04
• 代理公司: 44245 廣州市華學知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 唐善新

1.一種具有無光釉面的陶瓷磚的制備方法，其特征在于包括以下步驟：

(1)微粉二次布料，布施底料與面料；

(2)壓機處使用非凹凸?；虬纪鼓＿M行干壓成型，形成具有底料層與面料層的坯體；

(3)對于使用非凹凸模壓制的坯體，干燥處理后進行拋坯處理，對于使用凹凸模壓制的坯體只進行干燥處理；

(4)對步驟(3)所得的坯體進行吹塵，然后在面料層進行噴墨打?。?/p>

(5)使用高壓噴釉機在上述經(jīng)噴墨打印的面料層上噴施一層面料處理漿，控制面料處理漿與面料層接觸時的溫差≤2℃；所述面料處理漿的原料配方組成為80～85wt％釉料、9～12wt％干粒熔塊和5～8wt％粘結(jié)劑，比重為1.30～1.35；所述釉料組成為25～35wt％碳酸鋇、4.0～5.0wt％氧化鋅、40～55wt％長石、9～12wt％高嶺土、12～16wt％高膨脹熔塊708；所述干粒熔塊為細度為60目～250目的啞光干粒熔塊；所述粘結(jié)劑為的含樹脂類的水性劑；所述啞光干粒熔塊的化學組成為氧化硅40～50wt％、氧化鋁8～15wt％、氧化鈣12～16wt％、氧化鎂8～15wt％、氧化鉀5～10wt％、鋯英粉5～10wt％，氧化鋇2～8wt％、氧化鋅1～5wt％、五氧化二釩0.1～0.5wt％、二氧化鈦0.1～0.5wt％、氧化鉍0.1～0.5wt％；

(6)使用直徑≤50mm的輥棒，將所得磚坯入窯燒成得到具有無光釉面的陶瓷磚，控制窯爐實際溫度曲線與預設溫度曲線偏差≤2℃/min，所述陶瓷磚表面光澤度為2.5～3光澤單位，耐污性能達5級，防滑性能達R11級。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有無光釉面的陶瓷磚的制備方法，其特征在于：步驟(1)所述底料的化學成分為：二氧化硅60～75wt％、氧化鋁15～20wt％、氧化鉀1.5～4.5wt％、氧化鈉1.5～4.5wt％、氧化鈣0.2～2.5wt％、氧化鎂0.2～2.5wt％、氧化鐵0.2～2.5wt％、氧化鈦0.1～2.0wt％；所述面料的化學成分為：二氧化硅60～75wt％、氧化鋁15～20wt％、氧化鉀1.5～5.0wt％、氧化鈉1.5～5.0wt％、氧化鈣0.2～2.0wt％、氧化鎂0.2～2.0wt％、氧化鐵0.1～1.5wt％、氧化鈦0.1～1.5wt％。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有無光釉面的陶瓷磚的制備方法，其特征在于：步驟(2)壓制成型的坯體具有平整或非平整兩種表面。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有無光釉面的陶瓷磚的制備方法，其特征在于：步驟(3)所述干燥溫度均為150℃～200℃，所述干燥時間均為30～120分鐘，獲得的干燥坯水分質(zhì)量百分比≤0.5％；步驟(3)所述使用非凹凸模壓制的坯體，拋光深度為0.1～0.5mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有無光釉面的陶瓷磚的制備方法，其特征在于：步驟(4)所述墨水為噴墨滲花墨水，墨水包括以Fe、Cr、Co、Au、Mn、Zr和Ni中的一種或多種可發(fā)色金屬的水溶性溶液或油溶性溶液，所述水溶性溶液中所含的水溶性鹽包括氯化亞鐵、鉻酸鉀、醋酸鎳、次氯酸鋯、硫酸銅、乙酸銅、乙酸鈷、硫酸鈷、氯化錳和醋酸鈷中的一種或多種的組合。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有無光釉面的陶瓷磚的制備方法，其特征在于：步驟(5)所述高壓噴釉機，在高壓噴頭壓力為4～10kg/cm²，漿料流速為20～30L/min的條件下，所述漿料經(jīng)高壓噴槍噴出后瞬間霧化，均勻地噴施于所述面料層上，每平米噴施所述漿料100～180g。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有無光釉面的陶瓷磚的制備方法，其特征在于：步驟(5)所述的含樹脂類的水性劑為水性氨基樹脂或水性丙烯酸樹脂。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有無光釉面的陶瓷磚的制備方法，其特征在于：步驟(6)所述入窯燒成在噴施所述面料處理漿8～15min后進行，控制入窯燒成溫度為1100～1200℃、燒成周期為40～70min。