[發(fā)明專利]乳腺斷層重建圖像的層間偽影抑制方法和裝置有效
申請?zhí)枺?/td> | 201911036299.5 | 申請日: | 2019-10-29 |
公開(公告)號: | CN110796620B | 公開(公告)日: | 2022-05-17 |
發(fā)明(設計)人: | 吳書裕;李翰威;齊宏亮;陳宇思;駱毅斌;呂曉龍 | 申請(專利權)人: | 廣州華端科技有限公司 |
主分類號: | G06T5/00 | 分類號: | G06T5/00;G06T11/00 |
代理公司: | 華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 李姣姣 |
地址: | 510700 廣東省廣州市黃埔*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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摘要: | |||
搜索關鍵詞: | 乳腺 斷層 重建 圖像 層間偽影 抑制 方法 裝置 | ||
1.一種乳腺斷層重建圖像的層間偽影抑制方法,所述方法包括:
獲取被掃描物體不同角度下的投影圖像,進行初次重建,得到初始重建圖像;
根據(jù)所述初始重建圖像,提取高密度物質的三維空間掩模和高密度物質的特征圖像;
對所述高密度物質的三維空間掩模分別進行映射,結合所述投影圖像的特征信息,得到不同角度下的投影圖像的高密度物質的二維投影掩模;
根據(jù)所述二維投影掩模和所述投影圖像的像素信息,得到偽影權重圖像;
對不同角度下的所述投影圖像和所述偽影權重圖像進行加權反投影重建,得到重建基圖像;
對所述重建基圖像和所述高密度物質的特征圖像進行融合處理,得到偽影抑制后的斷層合成重建圖像。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,根據(jù)所述二維投影掩模和所述投影圖像的像素信息,得到偽影權重圖像,包括:
根據(jù)所述二維投影掩模和所述投影圖像的像素信息,計算不同角度下的投影圖像在二維投影掩模區(qū)域范圍內的最小像素值;
基于所述最小像素值建立體素權重項的偽影修正權重,且基于所述最小像素值所在的位置建立距離權重項的所述偽影修正權重;根據(jù)所述偽影修正權重,生成不同角度下的偽影權重圖像。
3.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述對所述重建基圖像和所述高密度物質的特征圖像進行融合處理,得到偽影抑制后的斷層合成重建圖像,包括:
將不同角度下的二維投影掩模進行反向投影和交集運算,形成反向三維空間掩模;
對高密度物質的三維空間掩模和所述反向三維空間掩模進行交集運算,得到處理后的三維空間掩模;
利用處理后的三維空間掩膜和所述高密度物質的特征圖像進行交集運算,獲取高密度物質的二次特征圖像;
對所述高密度物質的二次特征圖像和所述重建基圖像進行融合處理,獲得偽影抑制后的斷層合成重建圖像。
4.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述獲取被掃描物體不同角度下的投影圖像,進行初次重建,得到初始重建圖像,包括:
利用重建方法對獲取的被掃描物體不同角度下的投影圖像進行待重建圖像體素的計算,得到初始重建圖像,所述待重建圖像體素是組成被掃描物體的最小重建體積單元。
5.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述對所述高密度物質的三維空間掩模分別進行映射,結合所述投影圖像的特征信息,得到不同角度下的投影圖像的高密度物質的二維投影掩模,包括:
根據(jù)待重建圖像體素的位置、X射線源的角度及探測器位置之間的空間幾何關系,將不同角度X射線照射下的圖像空間坐標映射至探測器的不同位置;
按照對應角度進行前向投影,獲得各角度下映射的預估二維投影掩模;
根據(jù)各角度投影圖像的特征信息和預估二維投影掩模,通過特征識別算法進行二次識別,獲得高密度物質的二維投影掩模。
6.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述對不同角度下的所述投影圖像和所述偽影權重圖像進行加權反投影重建,得到重建基圖像,包括:
對各角度下所得投影圖像和所述偽影權重圖像進行加權處理,將高密度物質在對應角度對應坐標的投影值修正至正常投影值范圍內;
將加權修正后的結果應用于反投影重建中,獲得偽影抑制后的重建圖像,將該重建圖像作為重建基圖像。
7.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述對所述重建基圖像和所述高密度物質的特征圖像進行融合處理之前,還包括:
對所述重建基圖像和所述高密度物質的特征圖像進行濾波和圖像增強處理。
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