[發明專利]PVD膜層及其制備方法及具有該膜層的金屬制品

有效

• 申請號: 201911034303.4
• 申請日: 2019-10-29
• 公開（公告）號: CN110863173B
• 公開（公告）日: 2022-08-12
• 發明（設計）人: 王國榮;李誠;張晉勝;易衛華;孟翔;王耀勇
• 申請（專利權）人: 富聯科技（山西）有限公司
• 主分類號: C23C14/02
• 分類號: C23C14/02;C23C14/06;C23C14/34
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334
• 代理人: 葉乙梅

本申請提供一種PVD膜層，用于沉積在基材上，PVD膜層包括依次層疊于基材表面的Cr打底層、Cr_aN_b過渡層、X_dCr_eN_f過渡層、Y_gC_hCr_iN_j顏色層。本申請還提出了一種PVD膜層的制備方法，包括：提供一基材；對所述基材進行離子清洗；依次在所述基材的表面沉積Cr打底層、Cr_aN_b過渡層、X_dCr_eN_f過渡層、Y_gC_hCr_iN_j顏色層。本申請還提出了一種金屬制品，包括一基材及鍍設在所述基材表面的PVD膜層。本申請獲得的金屬制品的Cr打底層、Cr_aN_b過渡層、X_dCr_eN_f過渡層、Y_gC_hCr_iN_j顏色層之間具有較強的結合力，且外觀色差較為穩定。

技術領域

本申請涉及鍍膜領域，尤其涉及一種PVD膜層及其制備方法及具有該膜層的金屬制品。

背景技術

隨著生活水平的提高，人們對日常使用的各種物品(包括電子設備產品)外觀的美學要求越來越高。電子設備產品的外觀效果引起廣泛重視，產品外殼的表面處理也在追求美觀大方或個性時尚。

現有技術中通常采用真空磁控濺射技術在殼體表面沉積顏色層，但該顏色層與殼體之間的結合力較小，使用過程中部分顏色層容易從殼體表面剝落，導致失去光澤感。

發明內容

有鑒于此，有必要提出一種PVD膜層及其制備方法及具有該膜層的金屬制品。以解決此問題。

本申請的第一方面提供一種PVD膜層，用于沉積在基材上，所述PVD膜層包括依次層疊于所述基材表面的Cr打底層、Cr_aN_b過渡層、X_dCr_eN_f過渡層、Y_gC_hCr_iN_j顏色層；

其中，在Cr_aN_b過渡層中，a為Cr的原子數，b為N的原子數，a：b＝(28-39)：(10-13)；

在X_dCr_eN_f過渡層中，X為元素Al、Mo、Ag、Nb、Ni、S、Fe、Ti和Si中的一種，X_dCr_eN_f過渡層中，d為X的原子數，e為Cr的原子數，f為N的原子數；

在Y_gC_hCr_iN_j顏色層中，Y為元素Ti、Al、Mo、Ag、Nb、Ni、S、Si和Fe中的一種，g為Y的原子數，h為C的原子數，i為Cr的原子數，j為N的原子數。

進一步地，在X_dCr_eN_f過渡層中，當X為元素Al、Mo、Ag、Nb、Ni、S、Fe和Si中的一種時，d、e、f的原子數比為：(40-46)：(22-32)：(12-16)。

進一步地，在X_dCr_eN_f過渡層中，當X為元素Ti，d、e、f的原子數比為：1:6:3。