[發明專利]一種古生界烴源巖生烴期次的判識方法有效
| 申請號： | 201911033298.5 | 申請日： | 2019-10-28 |
| 公開（公告）號： | CN110954969B | 公開（公告）日： | 2022-04-12 |
| 發明（設計）人： | 王鑫;周立宏;金鳳鳴;付立新;樓達;李宏軍;趙勇剛;崔宇;李會慎;張津寧;楊子玉;段潤梅;王輝 | 申請（專利權）人： | 中國石油大港油田勘探開發研究院 |
| 主分類號： | G01V9/00 | 分類號： | G01V9/00 |
| 代理公司： | 北京國坤專利代理事務所(普通合伙) 11491 | 代理人： | 趙紅霞 |
| 地址： | 300280 *** | 國省代碼： | 天津;12 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 古生界烴源巖生烴期次 方法 | ||
1.一種古生界烴源巖生烴期次的判識方法，其特征在于：包括以下步驟：
步驟1、確定地層缺失情況，統計所選地區古生界烴源巖上覆發育三疊系、侏羅系、白堊系、古近系與新近系五套層系的層位數據，并利用研究區層位數據確定地層缺失情況；
步驟2、統計地層厚度與剝蝕厚度，根據所選區域的層位數據，分別統計三疊系、侏羅系、白堊系、古近系、新近系的厚度以及剝蝕厚度；
步驟3、繪制埋藏史圖，進行烴源巖生烴評價，以地層厚度為縱坐標，以地層沉積時間為橫坐標，繪制埋藏史圖，并根據所繪埋藏史圖判斷烴源巖是否生烴；
所述步驟1中，地層缺失情況可分為：地層未發生缺失；三疊系、侏羅系、白堊系中一套或多套發生缺失這兩種情況；
所述步驟3中，當地層未發生缺失時，統計層位數據中白堊系、侏羅系和三疊系厚度之和H1與烴源巖上覆地層厚度之和H2；以地層厚度為縱坐標，以地層沉積時間為橫坐標，繪制埋藏史圖，則存在以下幾種情況：
若H1＞2000m且H2＞2500m，則認為烴源巖持續生烴，未發生中止；
若H1＞2000m但H2＜2500m，則認為烴源巖在上覆地層埋深至2000m時間點至距今65百萬年持續生烴，距今65百萬年至現今停止生烴；
若H1＜2000m但H2＞2500m，則認為烴源巖僅在上覆地層埋深至2500m時間點至現今持續生烴；
若H1＜2000m且H2＜2500m，則認為烴源巖未生烴；
所述步驟3中，當三疊系、侏羅系、白堊系中一套或多套發生缺失時，統計層位數據中白堊系、侏羅系和三疊系厚度之和H1、烴源巖上覆地層厚度之和H2與缺失地層累計剝蝕厚度h，以地層厚度為縱坐標，以地層沉積時間為橫坐標，繪制埋藏史圖，則存在以下幾種情況：
若(H1+h)＜2000m且H2＜2500m，則認為烴源巖未生烴；
若(H1+h)＜2000m且H2＞2500m，則認為烴源巖僅在上覆地層埋深至2500m時間點至現今，烴源巖持續生烴；
若2500m＞(H1+h)＞2000m且H2＞2500m，則認為烴源巖存在一次生烴間斷，間斷時間為缺失地層被剝蝕時間至上覆地層埋深至(H1+h)時間點；
若2500m＞(H1+h)＞2000m且H2＜2500m，則認為僅在上覆地層埋深至2000m時間點至缺失地層被剝蝕時間點，烴源巖持續生烴，此后停止生烴；
若(H1+h)＞2500m且H2＞(H1+h)，則認為烴源巖存在一次生烴間斷，間斷時間為缺失地層被剝蝕時間至上覆地層埋深至(H1+h)時間點；
若(H1+h)＞2500m且H2＜(H1+h)，則認為僅在上覆地層埋深至2000m時間點至缺失地層被剝蝕時間點，烴源巖持續生烴，此后停止生烴。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國石油大港油田勘探開發研究院，未經中國石油大港油田勘探開發研究院許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201911033298.5/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
