[發(fā)明專利]包括多個(gè)區(qū)域的光學(xué)元件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911033245.3 | 申請(qǐng)日： | 2019-10-28 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN111736359B | 公開（公告）日： | 2023-01-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 塔索·R·M·薩萊斯;喬治·邁克爾·莫里斯 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 唯亞威通訊技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G02B27/42 | 分類號(hào)： | G02B27/42 |
| 代理公司： | 北京安信方達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262 | 代理人： | 張瑞;楊明釗 |
| 地址： | 美國亞*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 包括 區(qū)域 光學(xué) 元件 | ||
1.一種衍射光學(xué)元件，包括：
具有表面的主體，
其中，所述表面具有以曲面細(xì)分方式周期性排列的多個(gè)區(qū)域，
其中，所述多個(gè)區(qū)域中的兩個(gè)或更多個(gè)區(qū)域具有多邊形形狀的不同的外部幾何邊界，并且
其中，所述多個(gè)區(qū)域中的每個(gè)區(qū)域具有隨機(jī)空間分布的微結(jié)構(gòu)，并且所述每個(gè)區(qū)域的外部幾何邊界鄰接所述多個(gè)區(qū)域中相鄰區(qū)域的外部幾何邊界。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的衍射光學(xué)元件，其中，所述多個(gè)區(qū)域中的每個(gè)區(qū)域具有相同隨機(jī)空間分布的微結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的衍射光學(xué)元件，其中，所述多個(gè)區(qū)域中的兩個(gè)或更多個(gè)區(qū)域具有不同隨機(jī)空間分布的微結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的衍射光學(xué)元件，其中，所述微結(jié)構(gòu)呈鞍形。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的衍射光學(xué)元件，其中，所述主體還具有第二個(gè)表面，其中，所述第二個(gè)表面具有以第二曲面細(xì)分方式周期性排列的多個(gè)區(qū)域，并且其中，所述多個(gè)區(qū)域中的每個(gè)區(qū)域具有隨機(jī)空間分布的微結(jié)構(gòu)。
6.一種光學(xué)系統(tǒng)，包括：
光源；以及
衍射光學(xué)元件，所述衍射光學(xué)元件包括具有表面的主體，其中，所述表面具有以曲面細(xì)分方式周期性排列的多個(gè)區(qū)域，其中所述多個(gè)區(qū)域中的兩個(gè)或更多個(gè)區(qū)域具有多邊形形狀的不同的外部幾何邊界，并且其中，所述多個(gè)區(qū)域中的每個(gè)區(qū)域具有隨機(jī)空間分布的微結(jié)構(gòu)，并且所述每個(gè)區(qū)域的外部幾何邊界鄰接所述多個(gè)區(qū)域中相鄰區(qū)域的外部幾何邊界。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述衍射光學(xué)元件根據(jù)所述隨機(jī)空間分布的微結(jié)構(gòu)投射目標(biāo)圖案。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)系統(tǒng)，其中，限定周期性排列的周期小于來自所述光源的輸入光束的尺寸，以便增加目標(biāo)圖案的對(duì)比度并固定斑點(diǎn)。
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