[發(fā)明專利]一種用于低溫環(huán)境設(shè)備的換樣方法、系統(tǒng)及應(yīng)用在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911031895.4 | 申請(qǐng)日: | 2019-10-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110864959A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-03-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 羅萬(wàn)居;白波;胡海韜;黃志強(qiáng);袁寶;童欣 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 散裂中子源科學(xué)中心;中國(guó)科學(xué)院高能物理研究所 |
| 主分類號(hào): | G01N1/36 | 分類號(hào): | G01N1/36 |
| 代理公司: | 深圳鼎合誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44281 | 代理人: | 李小焦;郭燕 |
| 地址: | 523808 廣東省東莞*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 低溫 環(huán)境設(shè)備 換樣 方法 系統(tǒng) 應(yīng)用 | ||
1.一種用于低溫環(huán)境設(shè)備的換樣方法,其特征在于:包括以下步驟,
(1)將樣品從樣品室移動(dòng)到過(guò)渡艙,然后關(guān)閉樣品室與過(guò)渡艙的門閥;
(2)向過(guò)渡艙中充入氦氣,使過(guò)渡艙保持相對(duì)于外部環(huán)境的正壓;
(3)打開(kāi)過(guò)渡艙的外部密封法蘭,進(jìn)行樣品更換,然后關(guān)閉外部密封法蘭,并對(duì)過(guò)渡艙進(jìn)行抽真空;
(4)完成步驟(3)后,對(duì)過(guò)渡艙進(jìn)行至少一個(gè)循環(huán)的以下操作:充氦氣、抽真空;
(5)最后,在過(guò)渡艙為真空狀態(tài)下,或者過(guò)渡艙內(nèi)充滿氦氣的狀態(tài)下,開(kāi)啟樣品室與過(guò)渡艙的門閥,將待測(cè)樣品移動(dòng)到樣品室內(nèi),即完成換樣。
2.一種用于低溫環(huán)境設(shè)備的換樣系統(tǒng),其特征在于:包括過(guò)渡艙、氦氣罐和抽真空設(shè)備;
所述過(guò)渡艙底部與低溫環(huán)境設(shè)備的樣品室連通,并采用門閥隔離,過(guò)渡艙頂部設(shè)置有可開(kāi)合的外部密封法蘭,過(guò)渡艙用于進(jìn)行樣品更換操作;
所述氦氣罐與所述過(guò)渡艙管道連通,用于給所述過(guò)渡艙充氦氣;
所述抽真空設(shè)備用于對(duì)所述過(guò)渡艙進(jìn)行抽真空。
3.一種采用權(quán)利要求1所述的換樣方法或權(quán)利要求2所述的換樣系統(tǒng)的低溫環(huán)境設(shè)備。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的低溫環(huán)境設(shè)備在同步輻射光源或散裂中子源中的應(yīng)用。
5.一種采用權(quán)利要求3所述的低溫環(huán)境設(shè)備的同步輻射光源或散裂中子源。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于散裂中子源科學(xué)中心;中國(guó)科學(xué)院高能物理研究所,未經(jīng)散裂中子源科學(xué)中心;中國(guó)科學(xué)院高能物理研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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