[發明專利]一種抑制納米銀產生的方法

有效

• 申請號: 201911029251.1
• 申請日: 2019-10-28
• 公開（公告）號: CN110813212B
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發明（設計）人: 林根仙;田朝暉;方軍;謝洪平
• 申請（專利權）人: 蘇州熱工研究院有限公司;蘇州大學;中國廣核集團有限公司;中國廣核電力股份有限公司
• 主分類號: B01J19/08
• 分類號: B01J19/08
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 汪青

1.一種抑制納米銀產生的方法，其特征在于：所述方法用于在核電站生產運行的工藝水環境中抑制納米銀的產生，包括如下步驟：在Ag⁺溶液與還原劑共存的情況下，采用γ射線輻照源進行輻照，輻照時間為5-7h；溶液中Ag⁺與還原劑的摩爾比為1:5-6.5；所述Ag⁺溶液中還包括酸性物質。

2.根據權利要求1所述的一種抑制納米銀產生的方法，其特征在于：所述γ射線輻照源為⁶⁰Co輻照源，其輻照強度為≦30Gy/min。

3.根據權利要求2所述的一種抑制納米銀產生的方法，其特征在于：所述還原劑為水合肼。

4.根據權利要求3所述的一種抑制納米銀產生的方法，其特征在于：所述Ag⁺溶液中Ag⁺的濃度為0.03-0.05g/L。

5.根據權利要求3所述的一種抑制納米銀產生的方法，其特征在于：所述Ag⁺溶液為硝酸銀溶液。

6.根據權利要求1所述的一種抑制納米銀產生的方法，其特征在于：所述酸性物質為硼酸。

7.根據權利要求6所述的一種抑制納米銀產生的方法，其特征在于：所述Ag⁺溶液中硼酸的濃度為2-3g/L。

8.根據權利要求7所述的一種抑制納米銀產生的方法，其特征在于：具體包括如下步驟：將硼酸溶液、硝酸銀溶液以及水合肼混合后避光振勻，采用⁶⁰Co輻照源進行輻照。