[發(fā)明專利]一種靜電消除裝置和方法以及電子掃描顯微鏡

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201911024505.0
• 申請日: 2019-10-25
• 公開（公告）號: CN110740556A
• 公開（公告）日: 2020-01-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 汪金鳳
• 申請（專利權(quán)）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: H05F3/02
• 分類號: H05F3/02;H01J37/28
• 代理公司: 31237 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 曹廷廷

1.一種靜電消除裝置，用于消除晶圓表面的靜電電荷，其特征在于，包括接地部件、第一靜電傳輸部件以及第二靜電傳輸部件；

所述第一靜電傳輸部件設(shè)置在所述接地部件上，所述第二靜電傳輸部件設(shè)置在所述晶圓表面；

當所述第一靜電傳輸部件與所述第二靜電傳輸部件接觸時，所述晶圓表面的靜電電荷依次通過所述第二靜電傳輸部件、所述第一靜電傳輸部件、所述接地部件，所述接地部件接地以將所述晶圓表面的靜電電荷導(dǎo)出。

2.如權(quán)利要求1所述的一種靜電消除裝置，其特征在于，所述第一靜電傳輸部件包括導(dǎo)電pin針，當所述導(dǎo)電pin針與所述第二靜電傳輸部件接觸時，所述晶圓表面的靜電電荷依次通過所述第二靜電傳輸部件和所述導(dǎo)電pin針傳入所述接地部件。

3.如權(quán)利要求2所述的一種靜電消除裝置，其特征在于，所述導(dǎo)電pin針的數(shù)量為多個。

4.如權(quán)利要求2所述的一種靜電消除裝置，其特征在于，所述第二靜電傳輸部件包括導(dǎo)電襯墊，當所述導(dǎo)電pin針與所述導(dǎo)電襯墊接觸時，所述晶圓表面的靜電電荷依次通過所述導(dǎo)電襯墊、所述導(dǎo)電pin針、所述接地部件。

5.如權(quán)利要求4所述的一種靜電消除裝置，其特征在于，所述導(dǎo)電襯墊設(shè)置在所述晶圓的切割線內(nèi)。

6.如權(quán)利要求4所述的一種靜電消除裝置，其特征在于，所述導(dǎo)電襯墊的數(shù)量為多個，所述導(dǎo)電襯墊間隔設(shè)置在所述晶圓上。

7.如權(quán)利要求6所述的一種靜電消除裝置，其特征在于，所述導(dǎo)電襯墊的數(shù)量為7個。

8.如權(quán)利要求1-7中任一所述的靜電消除裝置，其特征在于，所述接地部件包括一驅(qū)動部件，所述驅(qū)動部件與所述第一靜電傳輸部件連接，并用于驅(qū)動所述第一靜電傳輸部件做靠近或遠離所述第二靜電傳輸部件的運動。

9.一種電子掃描顯微鏡，其特征在于，包括權(quán)利要求1-7中任一項所述的接地部件以及第一靜電傳輸部件。

10.一種靜電消除方法，其特征在于，利用權(quán)利要求1-7中任一所述的靜電消除裝置。

11.如權(quán)利要求10所述的一種靜電消除方法，其特征在于，所述方法包括：

S1：在所述晶圓上設(shè)置所述第二靜電傳輸部件；

S2：所述接地部件驅(qū)動所述第一靜電傳輸部件與所述第二靜電傳輸部件接觸；

S3：所述接地部件驅(qū)動所述第一靜電傳輸部件遠離所述第二靜電傳輸部件。

12.如權(quán)利要求11所述的一種靜電消除方法，其特征在于，所述S2包括：

S21：設(shè)定所述第一靜電傳輸部件與所述第二靜電傳輸部件的接觸時間；

S22：所述接地部件驅(qū)動所述第一靜電傳輸部件與所述第二靜電傳輸部件接觸；

S23：判斷所述接地部件驅(qū)動所述第一靜電傳輸部件與所述第二靜電傳輸部件已接觸時間是否等于設(shè)定的接觸時間，若是，則進入S3，若否，則返回S22。