[發明專利]銻和/或鉍納米片、銻烯和/或鉍烯及其制法和用途有效
| 申請號: | 201911023629.7 | 申請日: | 2019-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN112792350B | 公開(公告)日: | 2022-04-19 |
| 發明(設計)人: | 易羅財;溫珍海 | 申請(專利權)人: | 中國科學院福建物質結構研究所 |
| 主分類號: | B22F9/24 | 分類號: | B22F9/24;B22F1/054;C25B11/075;C25B3/07;C25B3/26;B82Y30/00;B82Y40/00 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 納米 及其 制法 用途 | ||
本申請提供銻和/或鉍納米片、銻烯和/或鉍烯及其制備方法。本發明還提供本發明的銻和/或鉍納米片、銻烯和/或鉍烯以及本發明方法制得的銻和/或鉍納米片、銻烯和/或鉍烯的用途。本申請的方法具有產率高、制備周期短、易于擴大制備等優勢。
技術領域
本發明屬于納米材料領域,具體涉及金屬納米片、金屬烯,特別是銻和/或鉍納米片以及銻烯和/或鉍烯;還涉及所述金屬納米、金屬烯的制備方法,更具體而言,所述方法為熔融鹽輔助鋁熱還原法,還涉及本發明金屬納米片、金屬烯和由本發明方法制備的金屬納米片、金屬烯的用途。
背景技術
二維材料因具有獨特的電學、光學和化學特性,而在過去的幾十年引起了廣泛關注。如石墨烯、黑磷等二維材料在電子、能源、環境和生物工程領域已經取得了巨大的成就。但是,石墨烯本身作為零帶隙半金屬材料,在電子和發光二極管領域的應用受限;黑磷則對環境中的水分和氧極度敏感,其應用同樣遭受阻礙。銻(Sb)作為第五主族元素,與黑磷具有類似的性質,但具有獨特的能帶結構和良好的穩定性,因而應用前景廣泛。
然而,近年來雖然已有報道銻烯或銻納米片的制備方法,但所報道的制備方法,例如微機械剝離法、超聲或液相剝離法、外延法,均存在缺陷。機械剝離法制備產率低,傳統的液相剝離法制備耗時長,改進的液相剝離法過程復雜且產率仍待提高,外延法成本高昂。
發明內容
為了解決現有方法存在的問題,現提出一種全新的金屬納米片、金屬烯,以及其制備方法,該方法克服了現有方法的不足,具有產率高、制備周期短、易于擴大制備等優勢。
本發明一方面,提供一種金屬納米片,具體而言,提供一種銻納米片材料和/或鉍納米片材料,所述銻納米片材料和/或鉍納米片材料的厚度分布度ΔD/Dmax為0.5~0.8之間的任意值;
其中,ΔD=Dmax—Dmin;
Dmax表示銻納米片材料和/或鉍納米片材料中,最厚的銻納米片材料和/或鉍納米片材料的厚度;
Dmin表示銻納米片材料和/或鉍納米片材料中,最薄的銻納米片材料和/或鉍納米片材料的厚度。
在本發明金屬納米片的一個優選實施方案中,所述銻納米片材料和/或鉍納米片材料的厚度范圍為10~100nm之間的任意范圍。
優選地,所述銻納米片材料和/或鉍納米片材料的厚度范圍為10~95nm。
更優選地,所述銻納米片材料和/或鉍納米片材料的厚度范圍為10~90nm。
最優選地,所述銻納米片材料和/或鉍納米片材料的厚度為10nm~80nm。
例如,所述銻納米片材料和/或鉍納米片材料的厚度可為納10nm、16nm、17nm、35nm、40nm、45nm、52nm和/或80nm。
本發明的第二方面,提供一種金屬烯,具體而言,提供銻烯材料和/或鉍烯材料,所述銻烯材料和/或鉍烯材料的厚度分布度Δd/dmax為0.07~0.3之間的任意值;
其中,Δd=dmax—dmin;
dmax表示銻烯材料和/或鉍烯材料中,最厚的銻烯材料和/或鉍烯材料的厚度;
dmin表示銻烯材料和/或鉍烯材料中,最薄的銻烯材料和/或鉍烯材料的厚度。
在本發明金屬烯的一個優選實施方案中,所述銻烯材料和/或鉍烯材料的厚度范圍為0.5~1.5nm之間的任意范圍;
優選地,所述銻烯材料和/或鉍烯材料的厚度為0.75~1.33nm;
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