[發明專利]用于壓印的結構印模、裝置以及方法在審
| 申請號： | 201911023472.8 | 申請日： | 2012-09-06 |
| 公開（公告）號： | CN110908238A | 公開（公告）日： | 2020-03-24 |
| 發明（設計）人： | P.菲舍爾;G.克賴因德爾;J.哈明;C.塔納;C.舍恩 | 申請（專利權）人： | EV集團E·索爾納有限責任公司 |
| 主分類號： | G03F7/00 | 分類號： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 郭帆揚;陳浩然 |
| 地址： | 奧地利圣*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 壓印 結構 印模 裝置 以及 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種置于基板上的壓印的材料，所述材料包括：
背對所述基板的壓印面；和
壓印在所述壓印面上的壓印圖案，所述壓印圖案包括多個限定所述壓印面的結構。
2.根據權利要求1所述的材料，其中，所述結構是納米結構，各個所述納米結構具有小于100nm的尺寸。
3.根據權利要求2所述的材料，其中，各個所述納米結構的尺寸小于10nm。
4.根據權利要求2所述的材料，其中，各個所述納米結構的尺寸小于1nm。
5.根據權利要求1所述的材料，其中，所述結構是在所述壓印面中的壓制的結構。
6.一種壓印的主體，其包括：
壓印材料，所述材料包括壓印面，所述壓印面具有在其中形成的壓印圖案，所述壓印圖案包括多個限定所述壓印面的結構。
7.根據權利要求6所述的主體，其中，所述結構是納米結構，各個所述納米結構具有小于100nm的尺寸。
8.根據權利要求7所述的主體，其中，各個所述納米結構的尺寸小于10nm。
9.根據權利要求7所述的主體，其中，各個所述納米結構的尺寸小于1nm。
10.根據權利要求6所述的主體，其中，所述結構是在所述壓印面中的壓制的結構。
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