[發明專利]高精度錐臺平面結構類光學元件拋光工藝和拋光裝置

有效

• 申請號: 201911021194.2
• 申請日: 2019-10-25
• 公開（公告）號: CN110744390B
• 公開（公告）日: 2021-10-15
• 發明（設計）人: 于鑫;張艷艷;崔瑩;林娜娜;趙天玉;華偉;張學斌
• 申請（專利權）人: 天津津航技術物理研究所
• 主分類號: B24B13/00
• 分類號: B24B13/00;B24B13/005;B24B49/02
• 代理公司: 中國兵器工業集團公司專利中心 11011
• 代理人: 王雪芬

1.一種利用拋光裝置實現的高精度錐臺平面結構光學元件(1)的拋光工藝，其特征在于，

該拋光裝置為拋光支撐座(8)，該拋光支撐座(8)設計為通孔結構，其外壁面設計為當拋光支撐座(8)被裝夾在研磨拋光機的拋光架(7)中時，能夠與拋光架(7)貼合；其內壁面的上半部為受力錐面，且該受力錐面的高度大于錐臺平面結構光學元件(1)的2/3的厚度，且拋光支撐座(8)的錐度與錐臺平面結構光學元件(1)的側錐面(4)的錐度相同；

該工藝包括以下步驟：

S1、進行錐臺平面結構光學元件(1)的小面(2)的拋光；

S2、利用所述拋光支撐座(8)實現錐臺平面結構光學元件(1)的大面(3)的拋光；步驟S1具體為：

清理保護：將錐臺平面結構光學元件(1)的大面(3)、錐臺平面結構光學元件(1)的側錐面(4)擦拭干凈后粘接保護貼紙；

上盤：在大面(3)的保護貼紙外涂抹大面粘接膠層(6)，然后粘接到平面工裝(5)上；

裝夾：將平面工裝(5)裝夾在研磨拋光機的拋光架(7)上，確保裝夾穩固；

拋光：對小面(2)進行拋光；

清理、保護：拋光完畢后，將小面(2)清理干凈并用貼紙保護，所貼的保護紙為小面保護同心圓貼紙(10)；

步驟S2具體為：

清理保護：將大面(3)的保護貼紙撕掉并擦拭干凈；

預裝夾：將小面(2)水平向下放入到一拋光支撐座(8)中，使得錐臺平面結構光學元件(1)的側錐面(4)的上1/3部分暴露在外，下2/3部分作為整個錐臺平面結構光學元件(1)的受力支撐面，拋光支撐座(8)的懸空高度會高于側錐面(4)的下2/3部分的高度；

裝夾：將拋光支撐座(8)裝夾在研磨拋光機的拋光架(7)中，確保裝夾固定；

拋光：對大面(3)進行拋光，拋光開始后，拋光模的壓力作用、錐臺平面結構光學元件(1)的側錐面(4)的側錐面貼紙保護層(11)的緩沖作用使得錐臺平面結構光學元件(1)與拋光支撐座(8)的受力錐面均勻貼合；

拋光中的平行度測量：在拋光過程中，需要反復對平行度進行監控測量時，將拋光支撐座(8)從研磨拋光機的拋光架(7)中卸下，此時錐臺平面結構光學元件(1)與拋光支撐座(8)為一體，由于拋光支撐座(8)為通孔結構，在對平行度進行測量時，已完成拋光的小面(2)的小面保護同心圓貼紙(10)內部的表面會裸露在外，因此用測角儀自準直平行光管(13)對平行度直接測量，旋轉測角儀轉臺(12)后，根據測量的角度結果判定平行度是否達標；重復拋光、拋光中的平行度測量步驟，直到平行度、面形、疵病3項指標均達標。

2.如權利要求1所述的拋光工藝，其特征在于，清理、保護之后還包括步驟：

拆卸、清理：將錐臺平面結構光學元件(1)從平面工裝(5)上拆卸下來。

3.如權利要求1所述的拋光工藝，其特征在于，步驟S2中，進行拋光中的平行度測量之后還包括以下步驟：

清理、保護：將已完成拋光的大面(3)清理干凈，并用貼紙保護將裸露的大面(3)、小面(2)。

4.如權利要求3所述的拋光工藝，其特征在于，步驟S2中，清理、保護之后還包括以下步驟：

拆卸、清理：將錐臺平面結構光學元件(1)從拋光支撐座(8)上卸下，去除大面(3)、小面(2)的保護貼紙放入周轉保護盒中。

5.如權利要求1至4中任一項所述的拋光工藝，其特征在于，所述高精度錐臺平面結構類光學元件為平行度指標要求＜10″的錐臺平面結構類光學元件。